基本介紹
- 中文名:測量光柵
- 類別:特殊的光電感測器
- 包括:發射器和受光器
- 外形:長管狀
測量光柵一種特殊的光電感測器,主要用於檢測,測量產品是否符合規定要求。與普通的對射式光電感測器一樣,包含相互分離且相對放置的發射器和受光器兩部分。但其外形尺寸較大,為長管狀。檢測,測量光柵發射器產生的檢測光線並非如普通光...
光柵式感測器(optical grating transducer)指採用光柵疊柵條紋原理測量位移的感測器。光柵是在一塊長條形的光學玻璃上密集等間距平行的刻線,刻線密度為 10~100線/毫米。由光柵形成的疊柵條紋具有光學放大作用和誤差平均效應,因而能提高測量精度。感測器由標尺光柵、指示光柵、光路系統和測量系統四部分組成(見圖)。標...
光柵尺,也稱為光柵尺位移感測器(光柵尺感測器),是利用光柵的光學原理工作的測量反饋裝置。光柵尺經常套用於數控工具機的閉環伺服系統中,可用作直線位移或者角位移的檢測。其測量輸出的信號為數字脈衝,具有檢測範圍大,檢測精度高,回響速度快的特點。例如,在數控工具機中常用於對刀具和工件的坐標進行檢測,來觀察和跟蹤...
計量光柵技術的基礎——莫爾條紋(Moire fringes)是由英國物理學家L Rayleigh首先提出的。到20世紀50年代才開始利用光柵的莫爾條紋進行精密測量。技術歷史 從20世紀50年代至70年代,柵式測量系統從感應同步器發展到光柵、磁柵、容柵和球柵,這5種測量系統都是將一個柵距周期內的絕對式測量和周期外的增量式測量結合...
標尺光柵是利用光柵的光學原理工作的測量反饋裝置。標尺光柵經常套用於數控工具機的閉環伺服系統中,可用作直線位移或者角位移的檢測。其測量輸出的信號為數字脈衝,具有檢測範圍大,檢測精度高,回響速度快的特點。系統組成 標尺光柵由標尺光、讀數頭、敷貼器、村板或圓環和附屬檔案等組成。柔性的標尺光柵是在金屬基體上刻有柵...
測量光柵法 測量光柵法(measurement grating)是2015年公布的計量學名詞。定義 直接利用明、暗相間的條紋光柵的反射和吸收而形成光柵條紋計數測量位移,再微分或二次微分以求得速度或加速度的方法。出處 《計量學名詞》第一版。
利用光柵副產生光信號的原理由光柵角位移感測器感受角位移量並用光柵數顯表顯示其值的角度測量系統。定義 誤差峰–峰值 測量系統誤差曲線上最高點與最低點之差。測量系統細分誤差 光柵柵距內莫爾條紋原始信號經測量系統分割或倍頻後分割間距之間的最大誤差。技術要求 工作條件 測量系統在工作環境溫度範圍0~45℃相對濕度...
光柵感測器實際上是光電感測器的一個特殊套用。由於光柵測量具有結構簡單、測量精度高、易於實現自動化和數位化等優點,因而得到了廣泛的套用。光柵主要由標尺光柵和光柵讀數頭兩部分組成。通常,標尺光柵固定在活動部件上, 如工具機的工作檯或絲桿上。光柵讀數頭則安裝在固定部件上,如工具機的底座上。當活動部件移動時,...
長光柵是指主要用於測量長度的光柵。其載體為長條狀。其槽線密度一般為25、50、100和250條/毫米。有透射的,也有反射的,有黑白的,也有相位的。信息介紹 由大量等寬等間距的平行狹縫構成的光學器件稱為光柵(grating)。一般常用的光柵是在玻璃片上刻出大量平行刻痕製成,刻痕為不透光部分,兩刻痕之間的光滑部分...
1、三坐標光柵測量系統的種類,在玻璃的表面上製作透明與不透明間隔相等的線紋,可製成透射光柵;2、在金屬的鏡面上製成全反射或漫反射並間隔相等的線紋,稱作反射光柵;3、也可以把線紋做成具有一定衍射角度的光柵。檢測原理 光柵測量系統的檢測原理,光柵上刻有等間隔排列又能透過光線的細小的狹縫,如果把這樣兩...
長、圓光柵測量系統的精確度分別可達 1微米/1000毫米和0.5″/360°以上。隨著光柵製造技術和電子技術的發展,從20世紀50年代開始套用光柵測長技術來測量位移。這種方法已用於三坐標測量機、數字顯示工具顯微鏡、漸開線測量儀、齒輪單面嚙合檢查儀和電子千分尺等的測量系統中,也常用於數字控制工具機的定位反饋系統和其他...
敞開式感測器由光柵尺和光柵讀數頭兩部分組成。封閉式感測器由光柵尺、光柵讀數頭及殼體三部分整裝部件。海德漢光柵尺按外型分類為小型尺,標準型尺、大型尺三類。 海德漢光柵尺型號為GBC2-B30型(小型)、GBC2-B10型(標準型)、GBC2-B20型(大型),大型尺最長可做到3000mm。產品特點 1、 最先進可靠的光學測量系統,...
光柵線位移測量 光柵線位移測量(linear displacement measurement by grating)是2015年公布的計量學名詞,出自《計量學名詞》第一版。定義 利用光柵測量原理,由光柵線位移感測器感受線位移量,並用光柵數顯表顯示其值的長度測量單元。出處 《計量學名詞》第一版。
反射式光柵分光計是能套用於全部紫外線光、可見光和紅外光波段的光譜儀。參閱“攝譜儀”。基本介紹 衍射光柵是利用光的衍射原理使光發生色散的元件,它是由大量相互平行、等寬、等距的狹縫(或刻痕)構成。它能產生間距較寬的光譜線。可用作分光元件,用來製成單色儀、光譜儀等設備,在光譜分析和光譜測量中有著重要的...
區分測量技術大體可分為兩類,即多光纖光柵測量和單光纖光柵測量。多光纖光柵測量主要包括混合FBG/長周期光柵(long period grating)法、雙周期光纖光柵法、光纖光柵/F-P腔集成復用法、雙FBG重疊寫入法。各種方法各有優缺點。FBG/LPG法解調簡單,但很難保證測量的是同一點,精度為9×10,1.5℃。雙周期光纖光柵法...
光柵測量位移的實質是以光柵柵距為一把標準尺子對位稱量進行測量。目前高解析度的光柵尺一般造價較貴,且製造困難。為了提高系統解析度,需要對莫爾條紋進行細分,本系統採用了電子細分方法。當兩塊光柵以微小傾角重疊時,在與光柵刻線大致垂直的方向上就會產生莫爾條紋,隨著光柵的移動,莫爾條紋也隨之上下移動。這樣就把...
光電接收模組用於接收+1級衍射光的第一偏振光分量和第二偏振光分量及‑1級衍射光的第一偏振光分量和第二偏振光分量形成兩路拍頻信號;信號處理系統用於對兩路拍頻信號進行差分計算,實現測量光柵單次衍射4倍光學細分的位移測量。本發明可以避免光柵面形精度和光柵姿態誤差對測量精度的影響。
第五節 光柵測量儀器的電路系統 第三章 基於莫爾條紋的雙層光柵位移檢測 第一節 莫爾條紋概述 第二節 探測莫爾條紋的研究方法 第三節 基於莫爾條紋的高精度位移測量方案 第四節 基於莫爾條紋的精密測速方法 第四章 基於近場泰伯像的光柵位移檢測及其套用 第一節 Talbot效應 第二節 基於Talbot效應的位移測量原理及...
提出了一種基於對角線衍射級次的二維外差干涉光柵位移測量方法,配合所提出的解耦方法與交叉光柵,保證了高光學細分、高對比度與高信噪比的同時獲得。提出並研製了基於單層和雙層交叉矩形結構的兩種二維計量光柵,分別利用掩膜光刻方法和全息光刻方法對其進行了製作,並實驗驗證了所製作二維光柵的有效性。研製了雙波長二維...
光柵線位移測量系統第2部分:光柵線位移感測器 《光柵線位移測量系統第2部分:光柵線位移感測器》是2012年4月1日實施的一項行業標準。起草單位 中國計量科學研究院、中國工具機工具工業協會數顯裝置分會等。起草人 張恆、盧國 綱等。
含多波長的輻射方向固定,旋轉光柵,改變α,則在α+β不變的方向得到不同的波長。重要參數 解析度 光柵單色儀的解析度R是分開兩條臨近譜線能力的度量,根據羅蘭判據為:R=λ/Δλ 光柵光譜儀中有實際意義的定義是測量單個譜線的半高寬(FWHM)。實際上,解析度依賴於光柵的分辨本領、系統的有效焦長、設定的狹縫寬度...
光柵分光光度計實用性強,測試準確,是在可見光區域進行一般化學比色分析用的標準儀器。產品介紹 是工廠、礦山、醫院、學校及科研單位化驗室的常規設備。技術參數 1、 波長範圍:350-820nm;2、 波長精度:±3nm 3、 靈敏度:以0.001K2Cr2O7注入1公分光徑比色皿內,在440 nm波長處,與蒸餾水比較,其吸光度讀數...
光柵能量測定儀 光柵能量測定儀是2003年公布的機械工程名詞。定義 測量光柵的衍射強度分布的儀器。出處 《機械工程名詞 第三分冊》。
絕對式直線光柵尺,測量步距為0.1 µm(解析度達0.005 µm)單場掃描定位精度高和移動速度快 能承受高振動頻率 支持水平安裝 套用 numerically controlled machine tools 機械結構 全尺寸 Measuring procedures 絕對式 測量標準 DIADUR玻璃光柵帶絕對量和增量刻軌 熱膨脹係數 αtherm ≈ 8 x 10-6 K-...
《大量程納米級光柵式位移測量新方法的研究》是依託中國人民解放軍國防科技大學,由呂海寶擔任項目負責人的面上項目。中文摘要 研究大量程、納米級解析度、高性價比的光柵式位移測量新方法。其中包括等腰閃爍光柵的設計、特性仿真和製作方法,及其在非對稱雙級閃耀光柵測量中的套用;利用單個大長度低線數計量光柵實現大量程...
AMES面光柵真實外形測量系統是一種用於物理學領域的科學儀器,於2014年4月29日啟用。技術指標 成像系統:USB3.0,2/3CCD,1936×1456pixels,50fps。光電投影系統:LCD,4500流明,1920×1080pixels。空間解析度:0.02mm。主要功能 3D成像、表面面形檢測、3D數據獲取與分析、雙目視覺測量。
該方法採用雙波長雷射,給干涉條紋隨位移(或時間)的變化引入一個載波,使普通單光柵干涉測量的直流信號系統轉變為交流信號系統,可大大增強系統的抗干擾能力和穩定性,從而保證測量精度。其研究成果將大大提高我國超精密加工中較低價位納米級測量儀器的自主創新能力,對進一步推動先進制造技術的發展具有重要的現實意義,...
光柵拼接不僅能降低光柵製造成本,而且由於小光柵的質量比大光柵更容易控制,拼接光柵更有利於提高整個光柵質量。光柵拼接技術開闢了大光柵製造的新途徑。光柵拼接分為近似拼接和嚴格拼接。由於嚴格拼接方法對測量精度要求高,目前這方面的實驗研究還屬空白。本申請提出基於外差干涉技術的嚴格光柵拼接方法,以獲得高精度的...
針對以上問題,本文提出了一種基於傅立葉光學原理測量凹面光柵衍射效率的新方法,建立了該方法測量凹面光柵衍射效率的數學模型,並對測量中各影響因素進行了仿真分析。對比傳統雙單色儀結構,本文方法能夠有效避免光源不穩定性、出射光譜頻寬不一致、光柵疊級等問題對測量結果的影響,同時具有多波長同時測量、高光通量、高...