《雙波長單光柵式大量程納米級位移測量方法的研究》是依託中國人民解放軍國防科技大學，由顏樹華擔任項目負責人的面上項目。
基本介紹
- 中文名：雙波長單光柵式大量程納米級位移測量方法的研究
- 項目類別：面上項目
- 項目負責人：顏樹華
- 依託單位：中國人民解放軍國防科技大學
- 支持經費：35（萬元）
- 研究期限：2009-01-01 至 2011-12-31
- 負責人職稱：教授
- 申請代碼：E0511
- 批准號：50875258
中文摘要
納米測量是先進制造業發展的關鍵技術，也是整個納米科技領域的先導和基礎。本項目將雙波長雷射和單根光柵相結合，構造大量程、高精度且成本較低的外差式光柵干涉位移測量系統。研究內容包括雙波長單光柵式干涉測量系統理論模型的建立和分析，干涉場特徵信號變化與位移量的對應機理，光柵衍射特性對測量解析度和精度的影響機理，光路系統最佳化設計，基於信號交點跟蹤的任意相位差條紋信號計數細分方法，系統抗干擾能力的綜合分析，系統誤差的分析、補償及修正等。該方法採用雙波長雷射，給干涉條紋隨位移（或時間）的變化引入一個載波，使普通單光柵干涉測量的直流信號系統轉變為交流信號系統，可大大增強系統的抗干擾能力和穩定性，從而保證測量精度。其研究成果將大大提高我國超精密加工中較低價位納米級測量儀器的自主創新能力，對進一步推動先進制造技術的發展具有重要的現實意義，並將直接影響到我國航空航天、國防軍事、生物醫學及新材料等技術的長遠發展。
