《外差光柵位移測量裝置》是中國科學院長春光學精密機械與物理研究所於2020年09月11日申請的專利，該專利的公布號為：CN112097647B，專利公布日：2021年06月15日，發明人是：李文昊; 劉兆武; 姚雪峰; 王瑋; 吉日嘎蘭圖; 於宏柱; 白宇。
基本介紹
- 中文名：外差光柵位移測量裝置
- 授權公告號：CN112097647B
- 申請日：2020年09月11日
- 授權公告日：2021年06月15日
- 專利權人：中國科學院長春光學精密機械與物理研究所
- 申請號：2020109535958
- 地址：吉林省長春市經濟技術開發區東南湖大路3888號
- 發明人：李文昊; 劉兆武; 姚雪峰; 王瑋; 吉日嘎蘭圖; 於宏柱; 白宇
- Int. Cl.：G01B11/02(2006.01)I; G02B27/28(2006.01)I
- 專利代理機構：深圳市科進智慧財產權代理事務所(普通合夥)44316
- 代理人：曹衛良
專利摘要
本發明提供一種外差光柵位移測量裝置，包括光源、讀數頭、光電接收模組和信號處理系統，光源用於產生兩束重合、偏振正交且具有固定頻差的偏振光；讀數頭用於接收兩束偏振光，並分別入射到移動的測量光柵的表面生成分別包括第一偏振光分量與第二偏振光分量的+1級衍射光和‑1級衍射光，+1級衍射光和‑1級衍射光分別經讀數頭入射到光電接收模組；光電接收模組用於接收+1級衍射光的第一偏振光分量和第二偏振光分量及‑1級衍射光的第一偏振光分量和第二偏振光分量形成兩路拍頻信號；信號處理系統用於對兩路拍頻信號進行差分計算，實現測量光柵單次衍射4倍光學細分的位移測量。本發明可以避免光柵面形精度和光柵姿態誤差對測量精度的影響。
