《氣相沉積技術原理及套用》是2020年冶金工業出版社出版的圖書。
基本介紹
- 書名:氣相沉積技術原理及套用
- 作者:張世宏、王啟民、鄭軍
- 出版社:冶金工業出版社
- 出版時間:2020年12月12日
- ISBN:9787502486587
《氣相沉積技術原理及套用》是2020年冶金工業出版社出版的圖書。
氣相沉積是模具表面強化的新技術之一,已廣泛套用於各類模具的表面硬化處理,主要套用的沉積層為TiC,TiN。套用 氣相沉積技術的套用涉及多種領域。僅在改善機械零件耐磨抗蝕性能方面,其用途就十分廣泛。如用上述方法製備的TiN,TiC,Ti(CN)等薄膜具有很高的硬度和耐磨性,在高速鋼刀具上鍍制TiN膜可以說是高速鋼刀具...
常用的有常壓化學氣相澱積、低壓化學氣相澱積以及電漿增強化學氣相澱積等。原理 CVD是利用氣態物質在固體表面進行化學反應,生成固態沉積物的工藝過程。它一般包括三個步驟:(1)產生揮發性物質;(2)將揮發性物質輸運到沉積區;(3)於基體上發生化學反應而生成固態產物。技術分類 反應器是CVD裝置最基本的部件。根據反應...
物理氣相沉積技術工藝過程簡單,對環境改善,無污染,耗材少,成膜均勻緻密,與基體的結合力強。該技術廣泛套用於航空航天、電子、光學、機械、建築、輕工、冶金、材料等領域,可製備具有耐磨、耐腐蝕、裝飾、導電、絕緣、光導、壓電、磁性、潤滑、超導等特性的膜層。隨著高科技及新興工業發展,物理氣相沉積技術出現了不...
5) 利用調節沉積的參數,可以有效地控制覆層的化學成分、形貌、晶體結構和晶粒度等。6) 設備簡單、操作維修方便。7) 反應溫度太高,一般要850~ 1100℃下進行,許多基體材料都耐受不住CVD的高溫。採用等離子或雷射輔助技術可以降低沉積溫度。分類 化學氣相沉積的方法很多,如常壓化學氣相沉積(Atmospheric pressure CVD,...
《氣相沉積技術原理及套用》是2020年冶金工業出版社出版的圖書。內容簡介 本書以岩石力學、斷裂力學、圖像處理技術等理論為基礎,系統探討三軸壓縮荷載作用下岩石漸進性破壞力學特性,結合數字圖像處理技術,對不同狀態下岩石的巨觀力學特性及漸進性破壞過程進行了系統分析和研究,揭示了岩石變形過程中表面應變場和裂紋擴展...
金屬有機化合物化學氣相沉積(MOCVD) ,用金屬有機化合物熱分解進行氣相外延生長的方法。套用 其基本原理是將含有外延材料組分的金屬有機化合物氣體通過載氣輸送到反應室,在一定溫度卜進行外延生長。MOCVD技術主安應少“於班一\,.族U-VT族化合物半導體超晶格量子阱等低維材料生長和多元固溶體的多層異質結構材料的...
電漿化學氣相沉積( plasma chemical vapor deposition)簡稱PCVD,是一種用電漿激活反應氣體,促進在基體表面或近表面空間進行化學反應,生成固態膜的技術。電漿化學氣相沉積技術的基本原理是在高頻或直流電場作用下,源氣體電離形成電漿,利用低溫電漿作為能量源,通入適量的反應氣體,利用電漿放電,...
熱絲化學氣相沉積是指用灼熱鎢絲加熱分解碳物質,激活化學氣相反應,製備金剛石膜的工藝方法。這種方法的特點是設備簡單,工藝條件較易控制,金剛石膜生長速率比化學輸運法快,因而很快在全世界的金剛石膜研究中得到廣泛套用,成為製備金剛石膜的主要方法之一。簡介 熱絲化學氣相沉積是指用灼熱鎢絲加熱分解碳物質,激活化學...
氣相沉積套用技術作者王福貞,馬文存,本書在第1篇中全面闡述了化學氣相沉積、物理氣相沉積、電漿增強化學氣相沉積的技術基礎、技術原理、新的沉積技術、工藝過程、設備配套、膜層質量檢測和分析。在第2篇中介紹了氣相沉積技術在工模具硬質塗層、防護塗層、光學薄膜、建築鍍膜玻璃、太陽能利用、積體電路製造、信息存儲...
脈衝激發和微波激發。電漿增強化學氣相沉積的主要優點是沉積溫度低,對基體的結構和物理性質影響小;沉積速率快;膜的厚度及成分均勻性好;膜組織緻密、針孔少;膜層的附著力強;套用範圍廣,可製備各種金屬膜、無機膜和有機膜,在半導體製造、太陽能電池、塗層技術、顯示面板等領域都有著廣泛的套用。
《化學氣相沉積——從烴類氣體到固體碳》是2007年科學出版社出版的圖書,作者是張偉剛。內容簡介 化學氣相沉積是利用化工原理製備表面工程材料和複合材料的通用技術。本書論述了烴類氣體熱解與固體碳材料化學氣相沉積等化工過程,力圖運用化學反應工程的原理和方法,闡明熱解化學、氣體擴散和熱效應等對沉積過程的影響、固體...
一方面,通過仿真系統的構建,可以實現學生對CVD過程的反覆操作練習,加深對化學氣相反應過程的理解。另一方面,於低維納米材料具有獨特的物理化學性質,在能源、電子光電器件等領域有巨大的套用潛力,近年來受到了廣泛的關注與研究,通過對低維材料的仿真製備與表征,可以緊跟學科發展前沿,加深學生對低維材料理化性質的理解,掌握...
Si氣相外延是以高純氫氣作為輸運和還原氣體,在化學反應後生成Si原子並沉積在襯底上,生長出晶體取向與襯底相同的Si單晶外延層,該技術已廣泛用於Si半導體器件和積體電路的工業化生產。GaAs氣相外延通常有兩種方法:氯化物法和氫化物法,該技術工藝設備簡單、生長的GaAs純度高、電學特性好,已廣泛的套用於霍爾器件、耿氏...
砷化鎵的n型化學氣相摻雜通常是在主氣流中摻入矽烷的蒸氣。砷化鎵的高濃度n型摻雜則採用S、Se或Te的氫化物作摻雜劑。套用 在化學氣相沉積二氧化矽膜時,若同時通入適量的PH₃,或B₂H₅作摻雜劑,可分別獲得磷矽玻璃和硼矽玻璃,它們在器件中可作保護膜、層間隔離膜或固相擴散源等。
《現代PVD表面工程技術及套用》是2013年科學出版社出版的圖書,作者是張而耕、吳雁。內容簡介 《現代PVD表面工程技術及套用》系統全面地闡述了PVD(物理氣相沉積)塗層的發展歷史、技術原理、工藝流程及工程套用。全書共7章,內容包括:PVD塗層的研究進展、PVD技術原理、PVD塗層技術工藝、PVD塗層的結構與性能、PVD塗層的...
PECVD澱積的薄膜具有優良的電學性能、良好的襯底附著性以及極佳的台階覆蓋性,正由於這些優點使其在超大規模積體電路、光電器件、MEMS等領域具有廣泛的套用。本實驗以基於管式爐PECVD方法發生長氮化矽薄膜為例,旨在通過本實驗了解設備結構,了解真空技術在電漿制模過程中的套用,掌握電漿增強化學氣相沉積的原理、特點...
《納米材料的製備及套用》共4章。納米材料的製備是納米技術研究的最重要的基礎技術,是納米特性研究、納米測量技術、納米套用技術及納米產業化的前提條件,也是納米材料研究者始終關注和研究的重點。世界各國對納米材料的研究主要包括製備、微觀結構、巨觀物性和套用4個方面。《納米材料的製備及套用》著重介紹了國內外已經...
1.物理氣相沉積法:又稱蒸發冷凝法,是利用真空蒸發、雷射加熱蒸發、電子束照射、濺射等方法使原料氣化或形成電漿,然後在介質中急劇冷凝。這種方法製得的納米微粒純度高,結晶組織好,且有利於粒度的控制,但是技術設備相對要求高。依據加熱源的不同,物理氣相沉積法又可以分為:(1)惰性氣體蒸發冷凝法:此法...
真空蒸鍍,簡稱蒸鍍,是指在真空條件下,採用一定的加熱蒸發方式蒸發鍍膜材料(或稱膜料)並使之氣化,粒子飛至基片表面凝聚成膜的工藝方法。蒸鍍是使用較早、用途較廣泛的氣相沉積技術,具有成膜方法簡單、薄膜純度和緻密性高、膜結構和性能獨特等優點。原理 蒸鍍的物理過程包括:沉積材料蒸發或升華為氣態粒子→...
(2)裝飾領域的套用,如各種全反射膜及半透明膜等,如手機外殼,滑鼠等。(3) 在微電子領域作為一種非熱式鍍膜技術,主要套用在化學氣相沉積(CVD)或金屬有機 (4)化學氣相沉積(CVD)生長困難及不適用的材料薄膜沉積,而且可以獲得大面積非常均勻的薄膜。(5) 在光學領域:中頻閉合場非平衡磁控濺射技術也已...
電子束蒸鍍(Electron Beam Evaporation)是物理氣相沉積的一種。與傳統蒸鍍方式不同,電子束蒸鍍利用電磁場的配合可以精準地實現利用高能電子轟擊坩堝內靶材,使之融化進而沉積在基片上。電子束蒸鍍可以鍍出高純度高精度的薄膜。蒸鍍原理 電子束蒸鍍是利用加速電子轟擊鍍膜材料,電子的動能轉換成熱能使鍍膜材料加熱蒸發...
在現代,由於科學技術的進步,量熱方法得到了改進,特別是熱測量精度的提高,熱化學在燃料、食品以及生物和藥物等領域仍具重要意義。熱化學的數據(如燃燒熱、生成熱等)在熱力學計算、工程設計和科學研究等方面都具有廣泛的套用。熱化學,研究物理和化學過程中熱效應規律的學科。是化學的一支,也是物理學中熱學在化學...
第二節化學氣相沉積技術的原理與 特點227 第三節分子束外延制膜方法234 參考文獻237 第十一章高能束表面工程技術238 第一節常用工業雷射器、雷射表面工程 技術與裝備238 第二節雷射熔覆與合金化技術249 第三節雷射微納製造技術260 第四節離子束表面改性技術266 第五節電子束表面改性技術的特點及 套用277 參考文獻...
化學氣相沉積是在製造微電子器件時被用來沉積出某種薄膜的技術,這種薄膜可能是介電材料或者半導體。物理氣相沉積技術則是使用惰性氣體,撞擊濺鍍靶材,在晶圓表面沉積出所需的材質。製程反應室內的高溫和真空環境可以使這些金屬原子結成晶粒,在經過圖案化(patterned)和蝕刻,得到所需的導電電路。光學顯影是將光罩上的...
須晶之製造方法是尤其是第一個利用燃燒合成法來製備氮化鋁須晶之方法。在結構陶瓷的套用方面,若於製造氮化鋁陶瓷體時,添加適量之氮化鋁須晶(whisker)於其內部,便可大幅地增強其韌性與機械強度。研究介紹 原理 本研究是以化學氣相沉積法成長碳化矽須晶,利用三氯一甲基矽烷為反應源,使用H2當載流氣體,並另通以H2主...
據了解,優質寶石級金剛石單晶作為一種戰略性資源,在工業、科技及國防等眾多領域具有重要套用,市場前景廣闊。此前,世界上僅有美國、英國、日本等幾個已開發國家能夠合成寶石級金剛石單晶。巨大的商業價值使得寶石級金剛石單晶的合成技術長期以來一直受到嚴密的封鎖。河南工業大學材料學院超硬材料研究所經過長期、大量的...
同時,物理氣相沉積技術由於其工藝處理溫度可控制在500℃以下,因此可作為最終的處理工藝用於高速鋼和硬質合金類的薄膜刀具上。由於採用物理氣相沉積工藝可大幅度提高刀具的切削性能,人們在競相開發高性能、高可靠性設備的同時,也對其套用領域的擴展,尤其是在高速鋼、硬質合金和陶瓷類刀具中的套用進行了更加深入的研究。
4.3.3 化學氣相沉積合成工藝過程、工藝參數及過程控制 4.4 化學氣相沉積法套用實例 4.4.1 化學氣相沉積法製備碳納米管有序陣列 4.4.2 脈衝等離子CVD製備多孔石墨電極層 4.4.3 製備富勒烯結構MoS2納米粒 參考文獻 第5章 定向凝固技術 5.1 定向凝固的發展歷史 5.2 定向凝固基本原理 5.2.1 定向凝固技術...