金屬有機化合物化學氣相沉積metal or}amr c}}n:rpouruirhrmic}l }}po】一dcFx}sition ; MDCVh用金屬有機化合物熱分解進行氣相外延生長的方法。
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有機金屬化學氣相沉積法 (MOCVD, Metal-organic Chemical Vapor Deposition) ,是在基板上成長 半導體 薄膜的一種方法。...
金屬有機物化學氣相沉積(metal organic chemical vapour deposition)是一種利用有機金屬熱分解反應進行氣相外延生長薄膜的化學氣相沉積技術。...
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化學氣相沉積是一種化工技術,該技術主要是利用含有薄膜元素的一種或幾種氣相化合物或單質、在襯底表面上進行化學反應生成薄膜的方法。化學氣相澱積是近幾十年發展...
化學氣相沉積包括常壓化學氣相沉積、電漿輔助化學沉積、雷射輔助化學沉積、金屬有機化合物沉積等。氣相沉積法分類 編輯 CVD技術常常通過反應類型或者壓力來分類,包括...
《分子材料——光電功能化合物(第二版)》是一本通過光電功能化合物介紹受到國內...3.3金屬有機化學氣相沉積方法及其前體物3.3.1 m-v族材料和n-\\\'族材料...
本書是針對工科化工類專業學生進一步學習無機化學的教材。全書共分7章,包括:無機反應機理、無機化合物的製備、原子簇化合物、金屬有機化合物、重過渡元素、內過渡...
本書以生動的圖表和翔實的數據闡述了材料化學研究的一些前沿領域,包含電子傳輸鹽基導體、功能電活性高分子聚合物、聚合物在電子工業中的套用、化學氣相沉積、有機...
金屬有機化學氣相沉積系統(MOCVD)是利用金屬有機化合物作為源物質的一種化學氣相澱積(CVD)工藝·中文名 MOVPE 外文名 MOVPE 學科 化學 性質 名詞...
5. 大連市留學回國人員科研基金,Pt-Pd功能催化材料的金屬有機化學氣相沉積可控制備...11.邱介山,楊曉敏,梁長海,“用醇類化合物選擇性催化氧化製備醛或酮類化合物的...
這種對熱不穩定性被用於半導體工業中,即有機金屬化學氣相沉積法(MOVPE)。由於甲鍺烷毒性較大,某些有機鍺化合物(如異丁基鍺)可以替代甲鍺烷,套用於MOVPE中。 [4...
(gaas)等),發光原理是將電能轉換為光,也就是對化合物半導體施加電流,透過電子...2017年led外延片生長技術主要採用有機金屬化學氣相沉積方法。mocvd金屬有機物化學...
5.3.3金屬有機化合物化學氣相沉積 5.3.4光輔助化學氣相沉積 5.3.5分子束外延生長工藝 5.4原子層沉積 5.5薄膜封裝 5.5.1柔性電子器件封裝要求 5.5.2柔性...
以半導體矽材料晶片製造為主,兼顧化合物半導體材料晶片製造,比如在介紹薄膜製備工藝中,書中用單獨的一章介紹了如何通過金屬有機物化學氣相沉積來製備化合物半導體材料...
(3)化學氣相沉積:通過熱分解所選定的金屬化合物或有機化合物,獲得沉積薄膜的過程。(4)離子鍍:實質上離子鍍系真空蒸鍍和陰極濺射鍍的有機結合,兼有兩者的工藝...
氫化鍺(Germane),也稱為鍺烷,是一種化學試劑、可用於製取高純度鍺。分子式為...鍺烷在電子工業中主要用於金屬有機化合物氣相沉積(MOCVD)工藝,作為太陽能電池的...
高純金屬有機化合物即MO源是先進的金屬有機化學氣相沉積(簡稱MOCVD)、金屬有機分子束外延(簡稱MOMBE)等技術生長化合物半導體材料的支撐材料。化合物半導體材料是21世...
二乙基鋅不和CO2起反應,也不同酯基反應,因而可以選擇性地和醛酮化合物發生...可用於半導體生產的金屬有機化學氣相沉積(MOCVD)工藝和外延生長及聚合反應的催化...
金屬有機化合物氣相外延和分子束外延則用於製備量子阱及超晶格等微結構。非晶、微晶、多晶薄膜多在玻璃、陶瓷、金屬等襯底上用不同類型的化學氣相沉積、磁控濺射等...
可用於製備叔醇、仲醇和聚烯烴催化劑,也可作為製備其他金屬有機化合物的原料、鍍鋁。純品可用於金屬有機化學氣相沉積(MOCVD)工藝,並可用作火箭燃料。 [6] ...
金屬有機物化學氣相沉積(MOCVD)MOCVD 是一種先進的外延生長技術,是用氫氣將金屬有機化合物蒸氣和氣態非金屬氫化物經過開關網路送入反應室加熱的襯底上,通過熱分解...
這種對熱不穩定性被用於半導體工業中,即有機金屬化學氣相沉積法(MOVPE)。 [3] 由於甲鍺烷毒性較大,某些有機鍺化合物(如異丁基鍺)可以替代甲鍺烷,套用於MOVPE...
主要大型儀器設備有:金屬有機化合物氣相沉積(MOCVD)系統、微波電漿增強化學氣相沉積(MPECVD)系統、電漿增強化學氣相沉積(PECVD)系統、磁控濺射系統、反應離子...
化學氣相沉積法(CVD)利用揮發性金屬化合物的蒸氣通過化學反應生成所需化合物,該法製備的納米TiO2粒度細,化學活性高,粒子呈球形,單分散性好,可見光透過性好,吸收...
加快半導體照明(LED、OLED)研發,重點是金屬有機源化學氣相沉積設備(MOCVD)、高純金屬有機化合物(MO源)、大尺寸襯底及外延、大功率晶片與器件、LED背光及智慧型化控制...
化學氣相沉積法(CVD)利用揮發性金屬化合物的蒸氣通過化學反應生成所需化合物,該法製備的納米TiO2粒度細,化學活性高,粒子呈球形,單分散性好,可見光透過性好,吸收...
化學氣相沉積法(CVD)利用揮發性金屬化合物的蒸氣通過化學反應生成所需化合物,該法製備的納米TiO2粒度細,化學活性高,粒子呈球形,單分散性好,可見光透過性好,吸收...
電弧噴塗、雷射重熔複合等薄膜鍍層、物理氣相沉積、化學氣相沉積等)和非金屬塗層...3、沉澱反應:是通過無機化合物在顆粒表面沉澱反應,在顆粒表面形成一層和多層包...
稀磁半導體是一部分金屬離子被磁性離子 (過渡元素及稀土元素離子)取代的化合物...金屬有機化學氣相沉積MOCVD法利用有機金屬熱分解進行氣相外延生 長,可以合成組分...