殘留缺陷

殘留型缺陷形成的原因是，在完全曝光與未曝光區域之間總是存在部分曝光區域，在顯影過程中，部分曝光區域的光刻膠以及顯影后殘留物將滯留或離開圖案邊緣。由於它們與圖案化邊緣之間的粘附力很弱，它們可以脫離圖案邊緣並作為缺陷落在表面上，形成光刻膠殘留缺陷和顯影后反應物殘留缺陷（Residue）。

光刻膠殘留缺陷和顯影后反應物殘留缺陷會影響刻蝕工藝後的圖形，造成產品良率降低。如圖1所示，顯示了殘留型缺陷的SEM圖象。顯影后反應物殘留缺陷通常是由於顯影過程中去離子水流量不足造成的，顯影過程中的反應物沒有被去離子水沖洗乾淨。因此，在顯影工藝中最佳化去離子水沖洗工藝製程尤其重要。