顯影缺陷是指對於高透射率掩模,使用正顯影工藝後產生多餘的顯影后反應產物。
基本介紹
- 中文名:顯影缺陷
- 外文名:development defect
顯影缺陷是指對於高透射率掩模,使用正顯影工藝後產生多餘的顯影后反應產物。
對於高透射率掩模,使用正顯影工藝後將產生更多的顯影后反應產物,顯影后殘留缺陷更易黏在晶圓上。顯影缺陷分為:光刻膠殘留缺陷和顯影后反應物殘留缺陷。
殘留缺陷是指在顯影過程中,部分曝光區域的光刻膠以及顯影後殘留物將滯留或離開圖案邊緣,形成光刻膠殘留缺陷和顯影後反應物殘留缺陷(Residue) [1] 。
缺陷種類 編輯 每一次光刻需要經過塗膠、前烘、曝光、顯影、堅膜、刻蝕、去膠等多次步驟,循環周期長。工藝過程中由於人流、物流、環境氣流以及原材料的質量、工藝...
將顯影液塗覆在曝光後的晶圓表面上,正膠的曝光區域和負膠的非曝光區域溶於顯影液中,進一步將反應聚合物和顯影液殘留沖洗後,就可以顯現出光刻膠中的圖形,如圖1...
圖 光刻膠顯影 高解析度成像檢測是捕捉任何微觀缺陷的最佳方式,缺陷的種類與形貌、工藝整合有關,如圖形重複,線 CD 變化、通孔缺失,這些關鍵缺陷常常在蝕刻、去膠...
光刻圖形缺陷的來源主要有三種:一是材料帶來的,例如,光刻膠過期形成的懸浮顆粒;二是設備產生的,例如,旋塗時勻膠顯影機內的顆粒掉在晶圓表面;三是不完善的工藝...
由於顯影時水的表面張力作用在光刻膠線條上,光刻膠線條在晶圓表面彎曲、折斷造成的缺陷成為倒線缺陷。外文名 pattern collapse defect 沖洗晶圓表面的去離子水具有...
如果不正確地控制顯影工藝,光刻膠圖形就會出現問題這些光刻膠問題對產品成品率會產生消極影響,在隨後的刻蝕工藝中暴露缺陷。光刻膠顯影的三個主要類型問題是:顯影不...
14.2.1材料特性對顯影缺陷的影響14.2.2顯影模組硬體特點對顯影缺陷的影響14.2.3顯影清洗工藝特性與缺陷的關係14.3其他類型缺陷(前層和環境等影響)14.3.1化學...
缺點:顯影液消耗很大;顯影的均勻性差;b、連續噴霧顯影(Continuous Spray Development)/自動旋轉顯影(Auto-rotation Development)。一個或多個噴嘴噴灑顯影液在矽片表面...
品質缺陷 編輯 常見的品質缺陷: 顯影殘膠、曝光異物、抽真空不良、顯影不淨、顯影過度、開路、短路、線凸、缺口、露銅、掉膜、線路鋸齒(狗牙)等。常見品牌 編輯...