沖洗
晶圓表面的
去離子水具有一定的
表面張力。在乾燥過程中，水的表面張力會施加在
光刻膠線條上，可能導致倒線。在沖洗顯影液時，去離子水的沖洗速度或晶圓旋轉速度過大時，也會造成倒線，如圖1所示。
圖 1 倒線與徑向距離和沖洗速度的關係
圖2 光刻膠線條中水表面張力作用模型這裡使用一個簡化的模型來分析，如圖2所示，有兩個光刻膠線條，它們之間填充了水，由於水表面張力的存在，施加在光刻膠線條上的作用力為
式中，
g 是水的表面張力，
q 是表面
接觸角，
S是光刻膠線條的間距。這個作用力的效果是把光刻膠線條向內部彎曲，它在光刻膠上產生的應力為
式中，
H/L為光刻膠線條的高寬比，
P是線條的周期（
S+L），該式表明，光刻膠線條內的應力隨高寬比、水的表面張力增大而增大，隨表面接觸角的增大而減小。因此
疏水的光刻膠中應力較小（由於水在其表面的接觸角較大），不易發生倒線。具有較高玻璃轉變溫度（Tg）的膠一般有較大的
楊氏模量值。I-線膠的力學強度大於KrF膠的力學強度，而KrF膠的力學強度又大於ArF膠的力學強度；因此，倒線的現象在ArF工藝中廣泛存在。尤其是在使用亮掩模（bright-field mask）曝光時，掩模大部分是透光的，顯影后殘留在晶圓上的光刻膠相對較少，形成一些孤立的圖形，更容易發生倒線。
