最小缺陷

最小缺陷是指積體電路製造中光刻模組掩模版或者光刻晶片上有效圖形區域內允許存在的最小缺陷尺寸。

基本介紹

• 中文名：最小缺陷
• 外文名：minimum defect

在集成整乘愉局電路製造工藝中，大於最小缺陷尺寸的缺陷會往往會進一步構成致命缺陷，根據不同的工藝節點，特徵尺寸不同，允許的遙奔樂幾缺陷尺寸檔榜也不一樣。通常在功能圖形區域，承詢戒允許的缺陷尺寸小於特徵尺寸的1/3，如果是投影光刻機的墓料捉中間祖膠舉掩模，允許的缺陷尺寸由員槓膠中間掩模版上的特徵尺寸決定。

在193nm浸沒式光刻中，常見的造成缺陷原因可分為以下幾類：氣泡缺陷、水漬殘留缺陷、微型橋連缺陷、表面顆粒物缺陷、微小空洞缺陷。