掩模版形狀修正(reticle shape correction,RSC)是通過添加一個RSC子程式,進而實現掩模形狀修正。
基本介紹
- 中文名:掩模版形狀修正
- 外文名:Reticle shapecorrection(RSC)
掩模版形狀修正(reticle shape correction,RSC)是通過添加一個RSC子程式,進而實現掩模形狀修正。
掩模版形狀修正(reticle shape correction,RSC)是通過添加一個RSC子程式,進而實現掩模形狀修正。為了比較精確地確定掩模的形狀,RSC一般需要測量掩模版上的20個標識,然後選用5個修正參數:二階...
掩模形狀修正(reticle shape correction, RSC)是通過添加一個RSC子程式來實現對掩模的修正。為了比較精確地確定掩模的形狀,RSC一般需要測量掩模版上的20個標識。然後,選用5個修正參數:二階曲率(2nd order curvature)、線性楔型修正(...
光學鄰近效應修正(Optical Proximity Correction,OPC)就是使用計算方法對掩模版上的圖形做修正,使得投影到光刻膠上的圖形儘量符合設計要求,是一種光刻解析度增強技術。術語簡介 光學鄰近效應修正(optical proximity correction, OPC)是一種...
掩模版(mask)簡稱掩模,是光刻工藝不可缺少的部件。掩模上承載有設計圖形,光線透過它,把設計圖形透射在光刻膠上。掩模的性能直接決定了光刻工藝的質量。在投影式光刻機中,掩模作為一個光學元件位於會聚透鏡(condenser lens)與投影...
對準過程開始於投影掩模版與步進光刻機或步進掃描光刻機機身上固定的參照標記的正確對準。一旦投影掩模版和曝光設備的主體,那么承片台定位就用相應的投影掩模來測量。這個定位提供了基準修正數據,軟體將使用這些數據補償掩模版特徵的變化。
光學掩模版在薄膜、塑膠或玻璃基體材料上製作各種功能圖形並精確定位,以便用於光致抗蝕劑塗層選擇性曝光的一種結構。掩膜版套用十分廣泛,在涉及光刻工藝的領域都需要使用掩膜版,如IC(Integrated Circuit,積體電路)、FPD(Flat Panel ...
投影掩模版被一層附加透明層修正以便改變透光區域使光相移180度的技術被稱為相移掩模技術。相移掩模技術(PSM)是1982年發展起來的方法,用來克服光通過掩模版上小孔時發生衍射的有關問題。與異相波的干涉類似,這裡進行的是相消干涉。衍...
投影掩模版 投影掩模版是一個石英版,它包含了在矽片上重複生成的圖形,就像投影用的電影膠片的底片一樣。投影掩模版上的圖形可能僅包含一個管芯,也可能是幾個。投影掩模版指的是對於一個管芯或一組管芯的圖形。
雙重或者多重光刻技術需要與之匹配的掩模版,也就是說需要根據工藝流程的需要設計兩個或多個掩模,通常設計公司會先提供一個版圖(光刻所要實現的目標圖形,即設計圖形),因此,工程師所需要做的就是對該圖形進行拆分,以滿足多重曝光...
(2)通過圖形修正,即在設計掩模版圖形時就考慮到陰影效應,有意地引入修正。在幾何光學中,掩模陰影效應與入射光方向餘弦、吸收層厚度成線性關係,由於還存在複雜的電磁相互作用,嚴格計算需要採用時域有限差分(FDTD)法等算法。要減小...
精對準標記用於每個矽片曝光場和掩模版的對準調節。標記形狀和位置的變化依賴於設備製造商。一旦對準標記對準後,就認為投影掩模版上的其它圖形也對準了。利用電磁學時域有限差分算法,用來研究對準特性的仿真模型被提出。