掩模版工件台

掩模工件台（reticle stage）就是用於放置掩模板的固定平台，此固定平台相對於光刻機本體之間設定有X軸移動裝置和Y軸移動裝置，X軸與Y軸延伸方向均平行於掩模板，且X軸與Y軸相互垂直。

基本介紹

• 中文名：掩模版工件台
• 外文名：Reticle Stage

從硬體角度來看，對準操作涉及三個部分：掩模工件台（reticle stage）、晶圓工件台（wafer stage）和光學探測系統。

採用掩模板工作檯，在進行曝光工藝時，能夠通過X軸移動裝置和/或Y軸移動裝置，使得需要曝光的實際圖形區域的對角線中心與光刻機鏡頭中心重合，進而避免步進式重複曝光光刻機的光學鏡頭局部受熱不均勻的問題，從而能夠改善光刻機的套準精度表現。