《一種工件台定位誤差的校準方法》是上海微電子裝備(集團)股份有限公司於2019年1月31日申請的專利，該專利公布號為CN111505907B，專利公布日為2021年6月18日，發明人是張靜靜。
基本介紹
- 中文名：一種工件台定位誤差的校準方法
- 申請日：2019年1月31日
- 公布日：2021年6月18日
- 公布號：CN111505907B
- 申請號：2019101012545
- 專利權人：上海微電子裝備(集團)股份有限公司
- 地址：201203上海市浦東新區自由貿易試驗區張東路1525號
- 發明人：張靜靜
- Int. Cl.：G03F7/20(2006.01)I; G03F9/00(2006.01)I
- 專利代理機構：北京品源專利代理有限公司11332
- 代理人：孟金喆
對比檔案,專利摘要,
對比檔案
CN 102681359 A,2012.09.19; CN 101114134 A,2008.01.30; CN 101101458 A,2008.01.09; CN 107976870 A,2018.05.01; CN 101185035 A,2008.05.21; JP H06302495 A,1994.10.28
梁友生 等.掩模矽片自動對準誤差校正算法.《顯微、測量、微細加工技術與設備》.2005,(第1期),; Xiaozhi Zhang et.al..Design and control of a novel piezo-driven XY parallel nanopositioning stage.《Microsyst Technol》.2017,(第23期),
專利摘要
本發明公開了一種工件台定位誤差的校準方法，包括：對工件台上的基底進行正向掃描曝光，並顯影形成正向標記；對所述基底進行反向掃描曝光，並顯影形成反向標記，其中，所述反向標記和所述正向標記基於相同掩模版形成；確定所述正向標記和所述反向標記在掃描方向上的位置偏差；基於所述位置偏差和所述工件台的掃描速度，確定位置測量系統的延遲誤差參數；根據所述延遲誤差參數，對所述工件台的定位誤差進行校準。本發明能夠提高工件台的定位精度，提高光刻設備的套刻精度。
