《電子束曝光微納加工技術》是2004年北京工業大學出版社出版的圖書，作者是顧文琪。
基本介紹
- 書名：電子束曝光微納加工技術
- 作者：顧文琪
- 出版社：北京工業大學出版社
- 開本：16開
基本信息,內容介紹,目錄,
基本信息
作 者：顧文琪編
出 版 社：北京工業大學出版社出版日期：2004-07
ISBN：756391300版 次：1
包 裝：平裝開 本：16開
頁 數：310頁印 張：1次
所屬分類：圖書 > 工業技術 > 電力電工 > 電工技術 > (分類細分與勘誤)
內容介紹
本書系統地介紹了電子束曝光技術的發展歷史和原理、系統的組成和分類、套用和發展前景，同時詳細介紹了多種先進的電子束曝光機的性能和技術指標，電子光學柱、精密工件台等分部件和掩模版製作、電子束直刻等關鍵技術。全書共分10章，第一章為電子束曝光技術概論;第二章為電子束曝光機中的電子光學系統;第三章為工件台及雷射干涉儀精密定位;第四章為圖形發生器;第五章為檢測、對準和校正技術;第六章為電子束曝光機的計算機控制技術和數據轉換;第七章為電子束曝光製圖藝;第八章為真空控制系統;第九章為國內外幾種束曝光機的介紹;第十章為電子束曝光技術的套用和發展前景。 本書可作為微電子專業領域的科技人員和從事微電子、微光學、微機械等微納加工技術領域的科技人員的技術參考書，財同時還可作為高等院校專業教師、研究生的參考用書。
目錄
前言
第一章 電子束曝光技術概論
第一節 微納加工與曝光技術
第二節 電子束曝光技術的發展歷史及原理
第三節 不同類型的電子束曝光系統
參考文獻
第二章 電子束曝光機中的電子光學系統
第一節 概述
第二節 電子光學基礎
第三節 電子束曝光機的透鏡
第四節 電子束曝光機的電子槍
第五節 電子光住的對中系統
第六節 電子束曝光機的偏轉掃描系統
第七節 束閘及其控制
第八節 電子光學系統的像差
第九節 電子束曝光機聚焦成像和偏轉系統的設計計算
參考文獻
第三章 工件台及雷射干涉儀精密定位
第一節 精密工件台技術的發展概況
第二節 雷射干涉儀測量系統
第三節 雙頻雷射干涉儀產品介紹
第四節 測量誤差分析及雷射干涉儀的安裝與調整
第五節 精密工件台
第六節 微動工件台
第七節 自動輸片系統
第八節 工件台的驅動與控制
參考文獻
第四章 圖形發生器;第五章為檢測、對準和校正技術
第一節 掃描圓形電子束曝光機的圖形發生器
第二節 可變矩形電子束曝光機的圖形發生器
第三節 光柵掃描電子束曝光機的圖形發生器
第四節 以dsp為基礎的新型圖形發生器
第五節 圖形發生器的執行部件
參考文獻
第六章 電子束曝光機的計算機控制技術和數據轉換
第一節 檢測、對準和校正技術的意義和作用
第二節 電子與固體的相互作用
第三節 電子束曝光機常用的幾種信號及檢測器
第四節 檢測對準校正原理及方法
第五節 影響電子束曝光機精度的因素及分析方法
參考文獻
第七章 電子束曝光製圖藝
……
第八章 真空控制系統
第九章 國內外幾種束曝光機的介紹
第十章 電子束曝光技術的套用和發展前景。
