本書共分十二章，第1－8章分類介紹了幾種主要的微納加工技術，包括：光學曝光、電子束曝光技術、聚焦離子束加工技術、雷射加工技術、納米壓印技術、離子束技術、薄膜技術和自組裝加工，即簡要概述了各種加工方法的科學基礎，又從實用出發，介紹了各種技術的主要工藝過程，特別涉及各種技術根據需要最新發展的一些創新方法；第9－12章按幾個不同的領域，介紹了微納加工技術在納米材料與器件研究中的一些套用實例，包括電學、光學、磁學、生物等其它領域。這些成果深刻影響了當前納米科學與技術的發展，希望能對從事相關領域研究的讀者有所啟發和借鑑。
基本介紹
- 書名：微納加工及在納米材料與器件研究中的套用
- 出版社：科學出版社
- 頁數：353頁
- 開本：5
- 作者：顧長志 等
- 出版日期：2013年6月1日
- 語種：簡體中文
- 品牌：科學出版社
基本介紹,內容簡介,作者簡介,圖書目錄,
基本介紹
內容簡介
《微納加工及在納米材料與器件研究中的套用》可作為高等學校物理、化學、電子、材料、生物等專業研究生和高年級本科生的參考教材，也可供從事納米科學與技術等相關領域研究的科技工作者參考。
作者簡介
顧長志，1964年6月生於瀋陽。1997年于吉林大學獲得凝聚態物理專業博士學位。1997—1999年在德國夫琅禾費薄膜與表面工程研究所從事博士後研究，2000年在德國柏林自由大學物理系做高訪學者，2004年在日本物質材料國家研究所從事合作研究。1998年被聘為吉林大學教授，2001年至今任中國科學院物理研究所研究員、博士生導師，並任技術部主任、微加工實驗室主任。2000年獲教育部”跨世紀人才”稱號，2001年入選中國科學院“百人計畫”，2007年獲中國物理學會“胡剛復物理獎”，2008年獲得“國家傑出青年基金”。曾主持和承擔國家級重大和重點項目6項。
圖書目錄
《納米科學與技術》叢書序
前言
第1章光學曝光
1.1光學曝光系統的基本組成
1.2光學曝光的基本原理與特徵
1.2.1光學曝光的基本模式與原理
1.2.2光學曝光的過程
1.2.3解析度增強技術
1.3短波長光學曝光技術
1.3.1深紫外與真空紫外曝光技術
1.3.2極紫外曝光技術
1.3.3X射線曝光技術
1.3.4LIGA加工技術
1.4光學曝光加工納米結構
1.4.1泊松亮斑納米曝光技術
1.4.2表面等離激元納米曝光技術
1.4.3基於雙層圖形技術的納米加工
1.5光學曝光加工三維微納結構
1.5.1灰度曝光技術
1.5.2基於欠曝光的三維曝光技術
1.5.3基於菲涅耳衍射與鄰近效應的三維曝光技術
參考文獻
第2章電子束曝光技術
2.1電子束曝光系統組成
2.1.1電子槍
2.1.2透鏡系統
2.1.3電子束偏轉系統
2.2電子束曝光系統的分類
2.2.1掃描模式
2.2.2束形成
2.3電子束抗蝕劑
2.3.1電子束抗蝕劑的性能指標
2.3.2電子束抗蝕劑製作圖形工藝
2.3.3常用電子束抗蝕劑及其工藝過程
2.3.4特殊的顯影工藝
2.3.5多層抗蝕劑工藝
2.3.6理想抗蝕劑剖面的加工
2.4電子束與固體的相互作用及鄰近效應
2.4.1電子束與固體的相互作用
2.4.2鄰近效應及校正
2.5充電效應及解決方法
2.5.1引入導電膜
2.5.2變壓電子束曝光系統
2.5.3臨界能量電子束曝光
2.6三維結構的製備
2.6.1平整襯底上三維結構的加工
2.6.2三維襯底上圖形的製備
2.7電子束曝光解析度
2.8新型的電子束曝光技術
2.8.1投影電子束曝光
2.8.2微光柱陣列電子束曝光
2.8.3反射電子束曝光
參考文獻
第3章聚焦離子束加工技術
第4章雷射加工技術
第5章納米壓印技術
第6章刻蝕技術
第7章薄膜技術
第8章自組裝加工
第9章微納加工在電學領域的套用
第10章微納加工在光學領域的套用
第11章微納加工在磁學領域的套用
第12章微納加工在其他領域的套用
索引
前言
第1章光學曝光
1.1光學曝光系統的基本組成
1.2光學曝光的基本原理與特徵
1.2.1光學曝光的基本模式與原理
1.2.2光學曝光的過程
1.2.3解析度增強技術
1.3短波長光學曝光技術
1.3.1深紫外與真空紫外曝光技術
1.3.2極紫外曝光技術
1.3.3X射線曝光技術
1.3.4LIGA加工技術
1.4光學曝光加工納米結構
1.4.1泊松亮斑納米曝光技術
1.4.2表面等離激元納米曝光技術
1.4.3基於雙層圖形技術的納米加工
1.5光學曝光加工三維微納結構
1.5.1灰度曝光技術
1.5.2基於欠曝光的三維曝光技術
1.5.3基於菲涅耳衍射與鄰近效應的三維曝光技術
參考文獻
第2章電子束曝光技術
2.1電子束曝光系統組成
2.1.1電子槍
2.1.2透鏡系統
2.1.3電子束偏轉系統
2.2電子束曝光系統的分類
2.2.1掃描模式
2.2.2束形成
2.3電子束抗蝕劑
2.3.1電子束抗蝕劑的性能指標
2.3.2電子束抗蝕劑製作圖形工藝
2.3.3常用電子束抗蝕劑及其工藝過程
2.3.4特殊的顯影工藝
2.3.5多層抗蝕劑工藝
2.3.6理想抗蝕劑剖面的加工
2.4電子束與固體的相互作用及鄰近效應
2.4.1電子束與固體的相互作用
2.4.2鄰近效應及校正
2.5充電效應及解決方法
2.5.1引入導電膜
2.5.2變壓電子束曝光系統
2.5.3臨界能量電子束曝光
2.6三維結構的製備
2.6.1平整襯底上三維結構的加工
2.6.2三維襯底上圖形的製備
2.7電子束曝光解析度
2.8新型的電子束曝光技術
2.8.1投影電子束曝光
2.8.2微光柱陣列電子束曝光
2.8.3反射電子束曝光
參考文獻
第3章聚焦離子束加工技術
第4章雷射加工技術
第5章納米壓印技術
第6章刻蝕技術
第7章薄膜技術
第8章自組裝加工
第9章微納加工在電學領域的套用
第10章微納加工在光學領域的套用
第11章微納加工在磁學領域的套用
第12章微納加工在其他領域的套用
索引
