基本介紹
- 中文名:掃描投影光刻機
- 外文名:scanner
掃描投影光刻機是利用反射鏡系統把原有圖像的整個掩模版圖形投影到矽片表面的光刻設備。掃描投影光刻機光刻設備現在仍在較老的矽片生產線中使用,它們適用於線寬大於1微米的非關鍵層。由於掩模版是一倍的,圖像就沒有放大和縮小,並且掩...
圖1 步進-掃描式光刻機曝光方式示意圖 圖1是投影式光刻機的工作成像原理。曝光掃描結束後,曝光系統步進式移動到下一個位置。圖1(c)是步進和掃描運動的示意圖。為了儘量減少晶圓等待曝光時間,步進移動一般是按照一個蛇形路徑進行的...
3a.掃描投影光刻(Scanning Project Printing)70年代末~80年代初開始研究。這種光刻機中掩膜版與圖案的大小是1:1,即掩膜版上的尺寸與光刻膠上的圖案尺寸相同。之所以稱之為掃描,是因為光是透過一條細長的狹縫射在基底上,一般是...
投影光刻機 投影光刻機(projection mask aligner)是1993年公布的電子學名詞。公布時間 1993年,經全國科學技術名詞審定委員會審定發布。出處 《電子學名詞》第一版。
DUV步進投影光刻機是一種用於信息科學與系統科學、物理學、工程與技術科學基礎學科、材料科學領域的工藝試驗儀器,於2019年11月21日啟用。技術指標 解析度: 0.15um;套刻精度≦ 40nm;波長:KrF (248nm);寫場大小22mmx22mm;縮放...
投影式曝光指在掩膜板與光刻膠之間使用光學系統聚集光實現曝光。一般掩膜板的尺寸會以需要轉移圖形的4倍製作。優點:提高了解析度;掩膜板的製作更加容易;掩膜板上的缺陷影響減小。投影式曝光分為:(1)掃描投影曝光(Scanning Project ...
1997年美國GCA公司推出了第一台分步重複投影曝光機,被視為曝光技術的一大里程碑,1991年美國SVG公司又推出了步進掃描曝光機,它集分步投影曝光機的高解析度和掃描投影曝光機的大視場、高效率於一身,更適合<0.25μm線條的大生產曝光。
第四節 精密矽片工件台的機械結構一、光刻機工件台的母軌種類二、光刻機工件台的傳動機構與驅動電機三、二軸粗動台與三軸微動台的結構及特點四、掃描式矽片工件台和掩模工件台五、氣浮工件台的氣足設計第五節 雙頻雷射干涉測量系統...
步進光刻機是把投影掩模版上的圖形與塗膠矽片進行對準,而後從一點到另一點逐場曝光。在光學光刻中,步進光刻機有三個基本目標,所有這些目標都必須滿足用戶精度和重複性的規範:(1)使矽片表面和石英掩模版對準並聚焦(包括圖形);...
已知的光刻設備包括步進重複式和步進掃描式。2011年之前的技術中所公開的使用縮減倍率投影物鏡的步進光刻機中,該投影物鏡的倍率為縮減的,即按1:N的比率將掩模圖案通過投影物鏡投射於基底上。2011年之前的技術中所公開的步進光刻機所...
c、投影式曝光(Projection Printing)。在掩膜板與光刻膠之間使用透鏡聚集光實現曝光。一般掩膜板的尺寸會以需要轉移圖形的4倍製作。優點:提高了解析度;掩膜板的製作更加容易;掩膜板上的缺陷影響減小。投影式曝光分類:掃描投影曝光(...
光刻機的曝光頭(exposure head)必須特殊設計,以保證:(1)水隨著光刻機在晶圓表面做步進-掃描運動,沒有泄露;(2)水中沒有氣泡和顆粒。在193nm波長下,水的折射率是1.44,可以實現NA大於1。圖1是浸沒式光刻機曝光頭設計示意...
1、水隨著光刻機在晶圓表面做步進-掃描運動,沒有泄露;2、水中沒有氣泡和顆粒。在193nm波長下,水的折射率是1.44,可以實現NA大於1。圖3 是浸沒式光刻機曝光頭的示意圖。去離子水經過進一步去雜質、去氣泡(degassing)、恆溫之後...
圖1顯示了步進掃描投影光刻機基本工作原理。圖2是只有一個矽片台的運動定位系統。圖3是該申請人2007年申請的一種採用疊層驅動結構的矽片台雙台交換系統。圖4是《採用氣浮平面電機的矽片台雙台交換系統》所述採用氣浮平面電機的矽片台雙...
1. 劉世元, 裴辛哲, 周暢, 陳勇輝. 步進掃描光刻機連續掃描同步控制方法和系統. 專利號: ZL200410066384.3。2. 劉世元, 陳勇輝, 池峰, 周暢, 韋學志. 步進掃描投影光刻機同步匯流排控制器及同步控制系統. 申請號: 200510023858.0。...
7.4.3掃描投影光刻機 7.4.4分步重複光刻機 7.4.5步進掃描光刻機 7.5光刻工藝機簡介及操作流程 7.5.1URE2000/25光刻機 簡介 7.5.2光刻機操作流程 7.6光刻質量控制 7.6.1光刻膠的質量控制 7.6.2對準和曝光的質量...
為了區別接觸式曝光中使用的掩模,投影式曝光中使用的掩模又被稱為倍縮式掩模(reticle)。表1對這兩種掩模的不同之處做了對比。大型積體電路光刻工藝中使用的都是步進-掃描式光刻機(scanner),以及與之相配套的倍縮式掩模。在日常...
( 13 ) 步進掃描投影光刻機的照明系統, 發明, 2015, 第 1 作者, 專利號: ZL201310270245.1 ( 14 ) 相位延遲量分布和快軸方位角分布實時測量裝置和方法, 發明, 2015, 第 1 作者, 專利號: ZL201210199435.4 ( 15 ) ...
(2)本實驗室承擔了100nm光刻機、RFID電子標籤封裝設備等多個國家級重大專項課題的研究工作,研究成果在100nmArF準分子雷射步進掃描投影光刻機得到成功套用,並研製出我國第一台RFID電子標籤封裝裝備。(3)本實驗室提出了一整套雷射切割...
作為項目負責人完成中國科學院知識創新工程重要方向項目“偏振光導航定位技術研究”,主要指標已通過華東國家計量測試中心現場檢測;作為主要完成人參加國家863重大專項“100nm步進掃描投影光刻機調焦調平測控分系統的研究”、中科院國防預研項目...
732光刻膠 733正性光刻和負性光刻的 優缺點 74光刻設備簡介 741接觸式光刻機 742接近式光刻機 743掃描投影光刻機 744分步重複光刻機 745步進掃描光刻機 75光刻工藝機簡介及操作流程 751URE2000/25光刻機 簡介 752光刻機操作流程...
1987年7月獲得浙江大學流體傳動及控制專業工學學士學位。其間參加過"注塑機液壓控制系統"的研究。隨後考入中國科學院上海光學精密機械研究所攻讀工程光學碩士學位,從事"l:1掃描投影光刻機自動對準系統"的研究,1990年畢業。現在湖南省計量...
[8]步進掃描投影光刻機同步機制研究.中國機械工程,2009 [9]基於DSP和FPGA提高增量式光電編碼器精度的研究.機械與電子,2012 [10]微線段插補的高精度算法研究.組合工具機與自動化加工技術,2010 [11]工具機數控技術之插補原理的教學方法探討...
分步重複是光學術語。在積體電路製造工藝光刻模組中需要使用掩模來進行曝光。利用雷射直寫系統和電子束直寫系統製造掩模版時,可以直接在掩模基片上掃描曝光出與分步重複方式一樣的陣列掩膜圖形。光學掩模製造設備或者光刻設備採用分步重複的...
確定矽片上圖形的位置、方向和變形,並利用這些數據與掩模版上的圖形建立起正確關係的過程稱為對準。對準過程開始於投影掩模版與步進光刻機或步進掃描光刻機機身上固定的參照標記的正確對準。一旦投影掩模版和曝光設備的主體,那么承片台...