塗膠顯影系統

塗膠顯影系統是一種用於物理學領域的工藝試驗儀器，於2008年8月31日啟用。

基本介紹

• 中文名：塗膠顯影系統
• 產地：中國
• 學科領域：物理學
• 啟用日期：2008年8月31日
• 所屬類別：工藝試驗儀器 > 電子工藝實驗設備 > 半導體積體電路工藝實驗設備

技術指標

塗膠顯影矽片尺寸6英寸，轉速最高8500/分，可調。

主要功能

用於光刻膠的塗覆、顯影、加熱、冷卻。