位錯密度定義為單位體積晶體中所含的位錯線的總長度,單位是1/平方厘米。位錯密度的另一個定義是:穿過單位截面積的位錯線數目,單位也是1/平方厘米。
基本介紹
- 中文名:位錯密度
- 外文名:Dislocation Density
- 單 位:1/平方厘米
- 應 用:晶體結構
位錯密度定義為單位體積晶體中所含的位錯線的總長度,單位是1/平方厘米。位錯密度的另一個定義是:穿過單位截面積的位錯線數目,單位也是1/平方厘米。
位錯密度定義為單位體積晶體中所含的位錯線的總長度,單位是1/平方厘米。位錯密度的另一個定義是:穿過單位截面積的位錯線數目,單位也是1/平方厘米。...
位錯增殖是晶體中的位錯在一定形式的運動中,自身不斷產生新的位錯環或大幅度增加位錯線長度,從而使材料中的位錯數目或位錯密度在運動中不斷增大的過程。位錯...
金屬塑性變形過程中,位錯群不斷增殖,它們雜亂分布,像森林一般,稱為位錯林。...... 一般來講,經過金屬塑性變形後,位錯密度顯著增加。臨界切應力 和位錯錯密度 ...
位錯是晶體中局部滑移區域的邊界線,即是晶體中的一種線缺陷;它是決定金屬等晶體力學性質的基本因素,也對晶體的其他許多性質(包括晶體生長)有著嚴重的影響。通過...
《砷化鎵單晶位錯密度的測量方法(GB/T 8760-2006)》修改了原來表述位錯密度的術語解釋;重新製作了部分圖片,改善圖片質量;原標準規定,腐蝕位錯坑時,熔化的氫氧化...
半導體Si、Ge晶體中最簡單的一種位錯就是60度棱位錯。因為在(111)晶面內,位錯線的方向是<110>方向,該方向與晶面滑移方向互相構成60度的夾角,故有60度棱位...
利用取向差可以研究塑性變形金屬中晶粒內部的取向變化,儘管不能直接測量位錯密度,但可以通過取向變化來衡量位錯密度的相對大小 [1] 。...
另外,位錯密度的差異明顯會造成複合材料達到峰時效時間不同。本實驗中,對所有複合材料的熱處理工藝是相同的,小顆粒增強的複合材料達到峰時效時,大顆粒增強複合材料...
塑性變形引起位錯增殖,位錯密度增加,不同方向的位錯發 塑性變形力學原理 生交割,位錯的運動受到阻礙,使金屬產生加工硬化。加工硬化能提高金屬的硬度、強度和變形抗...
固液交界面掉有固體顆粒或熱應力較大,過冷度較大等都可能造成層錯面缺陷的產生,當襯底表面有機械損傷、雜質、局部氧化物、高位錯密度等都有可能引起層錯的產生...
與單晶體的臨界分切應力不同,多晶體材料中滑移系開動所需的最小分切應力不僅只與材料的固溶原子、第二相粒子、位錯密度和試驗溫度等因素有關,由Hall-Petch關係...
外延層是在襯底上生長的,它的質量好壞與襯底質量有關,因此要求襯底的位錯密度較低,有害雜質(如鐵、銅、鎳等)少。PN結隔離PN結隔離改進 編輯 ...
為了使形變繼續進行,必須開動新的位錯,結果鋼中在給定的應變下,位錯密度增高,導致強度升高和韌性降低。為了消除碳鋼的藍脆,鋼中加入一定量強碳化物和氮化物形成...
河流花樣解理階的特點是:支流解理階的匯合方向代表斷裂的擴展方向;匯合角的大小同材料的塑性有關,而解理階的分布面積和解理階的高度同材料中位錯密度和位錯...
9.6 腐蝕法測量位錯密度第10章 晶體取向的測定10.1 X射線衍射定向法10.2 晶體的雷射定向10.3 腐蝕坑法測定晶體取向第11章 晶體生長方法概論...
研究小組用冶金所自製的濺射外延膜,用原子力顯微鏡測出晶粒密度為2×108上標/cm2。搖擺曲線測出晶粒夾角~0.4°,求出的位錯總密度達l010/cm2,得出和國外各家...
一方面可以有效減少GaN外延材料的位錯密度,從而減小有源區的非輻射複合,減小反向漏電流,提高LED的壽命;另一方面有源區發出的光,經GaN和藍寶石襯底界面多次散射,...
伯格斯矢量(Burgers vector)是伯格斯提出了用晶體的滑移矢量表示位錯引起的晶體畸變的方法。...