砷化鎵單晶位錯密度的測量方法

砷化鎵單晶位錯密度的測量方法

《砷化鎵單晶位錯密度的測量方法(GB/T 8760-2006)》修改了原來表述位錯密度的術語解釋;重新製作了部分圖片,改善圖片質量;原標準規定,腐蝕位錯坑時,熔化的氫氧化鉀的溫度要保持在400℃。實驗證明,只要熔化的氫氧化鉀呈現澄清狀態,選擇適當的腐蝕時間,都能得到清晰的腐蝕坑,故取消了要求熔化的氫氧化鉀溫度保持在400℃的嚴格限制。

基本介紹

  • 書名:砷化鎵單晶位錯密度的測量方法
  • 作者:中華人民共和國國家質量監督檢驗檢疫總局 中國國家標準化管理委員會
  • 出版日期:2006年11月1日
  • 語種:簡體中文
  • ISBN:155066128140
  • 外文名:Gallium Arsenide Single Crystal-Determination of Dislocation Density
  • 出版社:中國標準出版社
  • 頁數:5頁
  • 開本:16
  • 品牌:北京勁松建達科技圖書有限公司
《砷化鎵單晶位錯密度的測量方法(GB/T 8760-2006)》由中國標準出版社出版。

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