乾法刻蝕系統

乾法刻蝕系統是一種用於化學、信息與系統科學相關工程與技術、材料科學、化學工程領域的工藝試驗儀器，於2019年03月11日啟用。

基本介紹

• 中文名：乾法刻蝕系統
• 產地：中國
• 學科領域：化學、信息與系統科學相關工程與技術、材料科學、化學工程
• 啟用日期：2019年03月11日
• 所屬類別：工藝試驗儀器 > 電子工藝實驗設備 > 電子產品通用工藝實驗設備

技術指標

功率使用範圍：0-600W 頻率 13.56MHz 精度±0.005％ 最小輸出功率 10W 最大輸出功率 500W 反射最大保護功率 400W。

主要功能

本設備是套用於乾蝕刻的一種設備，這種蝕刻的原理是，當在平板電極之間施加 13.56MHz 的 高頻（RF，radio frequency）電壓時會產生數百微米厚的離子層（ion sheath），在其中放入試樣，離子撞擊試樣而完成化學反應蝕刻。