ICP乾法刻蝕系統

ICP乾法刻蝕系統是一種用於統計學領域的分析儀器，於2006年8月1日啟用。

基本介紹

• 中文名：ICP乾法刻蝕系統
• 產地：英國
• 學科領域：統計學
• 啟用日期：2006年8月1日
• 所屬類別：分析儀器 > 電子光學儀器

技術指標

1*10-6pa。

主要功能

ICP乾法刻蝕系統。