X螢光光譜分析儀

X螢光光譜分析儀是一種用於材料科學、冶金工程技術領域的分析儀器，於2011年5月6日啟用。

基本介紹

• 中文名：X螢光光譜分析儀
• 產地：德國
• 學科領域：材料科學、冶金工程技術
• 啟用日期：2011年5月6日
• 所屬類別：分析儀器 > X射線儀器 > X射線螢光光譜儀

技術指標

元素範圍：Be4—U92 含量範圍：0.0001%—100% 最大功率≥4kW；最大電壓≥60kV，20-60 kV間1 kV連續可調 最大電流≥170mA , 5-170 mA間1 mA連續可調 穩定性：當外電壓波動±1%時，輸出波動≤±0.0001% 角度準確度：≤±0.001° 角度重現性：＜±0.0001° 定位方式：θ/2θ分別驅動，光學定位，無機械磨損 檢測系統：全真空掃描。

主要功能

固體、粉末樣品、難溶樣品的常量、微量、痕量元素分析測定。