X螢光光譜儀(XRF)由激發源(X射線管)和探測系統構成。X射線管產生入射X射線(一次X射線),激發被測樣品。
X螢光光譜儀技術原理
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X螢光光譜儀主要用途
X螢光光譜儀根據各元素的特徵X射線的強度,也可以獲得各元素的含量信息。 近年來,X螢光光譜分析在各行業套用範圍不斷拓展,已成為一種廣泛套用於冶金、地質、有色、建材、商檢、環保、衛生等各個領域,特別是在RoHS檢測領域套用得最多也最廣泛。 大多數分析元素均可用其進行分析,可分析固體、粉末、熔珠、液體等樣品,分析範圍為Be到U。並且具有分析速度快、測量範圍寬、干擾小的特點。
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X螢光光譜儀的優缺點
優點: a)分析速度高。測定用時與測定精密度有關,但一般都很短,2~5分鐘就可以測完樣品中的全部待測元素。 b)X射線螢光光譜跟樣品的化學結合狀態無關,而且跟固體、粉末、液體及晶質、非晶質等物質的狀態也基本上沒有關係。(氣體密封在容器內也可分析)但是在高解析度的精密測定中卻可看到有波長變化等現象。特別是在超軟X射線範圍內,這種效應更為顯著。波長變化用於化學位的測定。 c)非破壞分析。在測定中不會引起化學狀態的改變,也不會出現試樣飛散現象。同一試樣可反覆多次測量,結果重現性好。 d)X射線螢光分析是一種物理分析方法,所以對在化學性質上屬同一族的元素也能進行分析。 e)分析精密度高。 f)制樣簡單,固體、粉末、液體樣品等都可以進行分析。 缺點: a)難於作絕對分析,故定量分析需要標樣。 b)對輕元素的靈敏度要低一些。 c)容易受相互元素干擾和疊加峰影響。 X螢光光譜儀有兩種基本類型:波長色散型(WD-XRF)和能量色散型(ED-XRF)。