X射線螢光光測量系統是一種用於電子與通信技術領域的分析儀器,於2007年4月24日啟用。
基本介紹
- 中文名:X射線螢光光測量系統
- 產地:德國
- 學科領域:電子與通信技術
- 啟用日期:2007年4月24日
- 所屬類別:分析儀器 > X射線儀器 > X射線螢光光譜儀
X射線螢光光測量系統是一種用於電子與通信技術領域的分析儀器,於2007年4月24日啟用。
X射線螢光光譜儀(X-ray Fluorescence Spectrometer,簡稱:XRF光譜儀),是一種快速的、非破壞式的物質測量方法。X射線螢光(X-ray fluorescence,XRF)是用高能量X射線或伽瑪射線轟擊材料時激發出的次級X射線。這種現象被廣泛用於元素分析...
X螢光光譜儀(XRF)由激發源(X射線管)和探測系統構成。X射線管產生入射X射線(一次X射線),激發被測樣品,產生X螢光(二次X射線),探測器對X螢光進行檢測。中文名 X螢光光譜儀 外文名 X-ray Fluorescence Spectrometer(XRF) 類型 獲得...
進入21世紀後,無論是波長色散 X 射線螢光光譜儀還是能量色散 X 射線螢光光譜儀都取得了非常大的進步,譜儀測量技術的進展主要體現在以下幾個方面。1、數據處理系統智慧型化 1)軟體智慧型化:窗式軟體的使用,將儀器的工作狀態實時地顯示...
X射線螢光光譜儀又稱XRF光譜儀,有色散型和非色散型兩種。色散型又分為波長色散型和能量色散型。波長色散型XRF光譜儀由X射線管激發源,分光系統,探測器系統,真空系統和氣流系統等部分組成。根據分析晶體的聚焦幾何條件不同,分為非聚焦...
X射線螢光發射光譜儀 用於測量螢光X射線的X射線光譜儀。
X射線螢光顯微分析儀 X射線螢光顯微分析儀是一種用於材料科學領域的分析儀器,於2005年6月8日啟用。技術指標 分析元素Na-U,能量解析度FWHM 主要功能 材料分析,微區成分分析,光學圖像觀察,內部異物分析,圖像處理。
熱釋光/光釋光測量系統是一種用於核科學技術領域的分析儀器,於2016年10月28日啟用。技術指標 TL:可從室溫加熱到700℃,升溫率可在0.1 K/s -10 K/s之間編程調節。恆溫TL可在任何固定溫度下操作。 OSL: 藍色LED(波長470nm)...
X螢光光譜分析儀是一種用於材料科學、冶金工程技術領域的分析儀器,於2011年5月6日啟用。技術指標 元素範圍:Be4—U92 含量範圍:0.0001%—100% 最大功率≥4kW;最大電壓≥60kV,20-60 kV間1 kV連續可調 最大電流≥170mA , 5...
只要測出一系列X射線螢光譜線的波長,即能確定元素的種類;測得譜線強度並與標準樣品比較,即可確定該元素的含量。由此建立了X射線螢光光譜 (XRF)分析法。簡介 是介於原子發射光譜(AES)和原子吸收光譜(AAS)之間的光譜分析技術。基本...
本X射線光電子能譜儀測試系統為帶有多種功能的綜合性光電子能譜分析平台。該系統可在極高真空下,通過配備的X射線光源以及紫外光源,在樣品表面激發光電子,再通過高精度探測器捕獲分析,得到相應的光電子能譜。可用於目標樣品的元素組成...
釋文:樣品被入射X射線激發產生的螢光X射線,經分光器色散後,由測角儀(θ)聯動裝置上的探測器(2θ),在不同方向(角度-2θ)上,對X射線螢光光譜進行譜線波長和強度測量,最終給出待測元素含量報告的X射線螢光光譜分析儀器。釋...
X射線螢光光譜儀,根據分光原理,可以分為波長色散型和能量色散型兩種基本類型。波長色散型X射線螢光光譜儀由X光管激發源、試樣室、晶體分光器、探測器和計數系統幾個部分組成。而能量色散型X射線螢光光譜儀則用解析度較高的半導體探測器...
螢光光譜儀可分為X射線螢光光譜儀和分子螢光光譜儀。原理 主要用途 1.螢光激發光譜和螢光發射光譜 2.同步螢光(波長和能量)掃描光譜 3.3D(Ex Em Intensity)4.Time Base和CWA(固定波長單點測量)5.螢光壽命測量,包括壽命分辨及時間...
波長色散型X射線螢光光譜儀是一種用於化學、食品科學技術領域的分析儀器,於2008年12月23日啟用。技術指標 最大功率3.6KV;0~60KV間,1KV連續可調;高壓發生器輸出穩定度±0.0001%;12位自動進樣器;下照式,六塊晶體。主要功能 ...
X射線螢光能譜儀EDXRF X射線螢光能譜儀EDXRF是一種用於材料科學領域的分析儀器,於2018年4月27日啟用。技術指標 ARL QUANTX。主要功能 元素分析。
X射線工業CT無損檢測系統是一種用於材料科學領域的分析儀器,於2014年12月26日啟用。技術指標 最大管電壓:600kV,最大功率:1500kW;穿透能力: Al (密度2.7):≥ 250 mm;Fe(密度7.8):≥ 90 mm SiC 陶瓷(密度3.2 g/...
全反射X射線螢光光譜儀是一種用於材料科學領域的分析儀器,於2016年11月28日啟用。技術指標 可分析元素範圍:Al~U(靶元素和與靶元素干擾嚴重的元素除外) 濃度範圍:10-9~100% 檢出限:Ni≤2pg 激發源:最大功率≥30W;最大激發...
TXRF分析儀包KV,220mA(銅靶,鉬靶X光管)X射線衍射儀測角儀,X射線全反射裝置(三重全反射X光路的反射體及相應的限束光欄)和能譜測量系統(包括探測器),對5.9KeV的能量解析度為165eV,16384道脈衝高度分析器,主和相應的能...