X射線螢光光測量系統

X射線螢光光測量系統

X射線螢光光測量系統是一種用於電子與通信技術領域的分析儀器,於2007年4月24日啟用。

基本介紹

  • 中文名:X射線螢光光測量系統
  • 產地:德國
  • 學科領域:電子與通信技術
  • 啟用日期:2007年4月24日
  • 所屬類別:分析儀器 > X射線儀器 > X射線螢光光譜儀
技術指標,主要功能,

技術指標

可程式測量平台, 4個視準器:Ф0.1mm,Ф0.3mm,Ф0.6mm,0.5*0.15mm, 可測量Au,Ni,SnPb,Ag等鍍層厚度。

主要功能

鍍層厚度測量(生產許可證試驗)。

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