X射線光譜系統

X射線光譜系統是一種用於材料科學、冶金工程技術領域的分析儀器，於1981年12月3日啟用。

基本介紹

• 中文名：X射線光譜系統
• 產地：日本
• 學科領域：材料科學、冶金工程技術
• 啟用日期：1981年12月3日
• 所屬類別：分析儀器 > X射線儀器 > X射線衍射儀

技術指標

X射線發生器:3kW或18kw, 額定電壓:20-60kV, 額定電流:2-80mA, 穩定度:±0.005%以內;X射線防護。

主要功能

物相分析。