鋁靶材

鋁靶材是用於真空鍍膜行業濺射靶材中的一種，是高純鋁經過系列加工後的產品，具有特定的尺寸和形狀高純鋁材料，安裝在真空鍍膜機上，濺射成膜。

基本介紹

• 中文名：鋁靶材 
• 外文名：Aluminum Target
• 用途：真空濺射鍍膜
• 產地：中國

名稱

鋁靶材

物理性質

元素符號	Al靶材	元素符號	Al靶材
相對分子質量	26.98	蒸發潛熱	11.4
原子體積	9.996*10-6	蒸汽壓	660/10-8-10-9
晶型	Fcc面心立方	電導率	37.67
堆積密度	74%	電阻係數	+0.115
配位數	12	吸收光譜	0.20*10-24
晶格能	200*10-7	泊松比	0.35
密度	2.7	可壓縮性	13.3mm2/MN
彈性模量敬享恥	66.6Gpa	熔點	660.2
剪下模量	25.5Gpa	沸點	約2500

用途

適用於直流二極濺龍地遙射、三極濺射、四級濺射、射頻濺虹贈射、對向靶濺射、離子束濺射、磁控濺射等，可鍍制反光膜、導電膜、半導體薄膜、電容器薄膜、裝飾膜、保護膜、積體電路、顯示器等，相對其它靶材，鋁靶材的價格較低，所以鋁靶材是在能滿足膜層的功能前提下的首選靶材料。

分類

鋁靶材有平面鋁靶材和旋轉鋁靶材之分

平面鋁靶材是片狀的，有圓形、方形等。

旋轉鋁靶材是管狀的，利用效率高，但不易加工，要通過高純鋁擠壓、拉伸、校直熱處理，機加工殃姜斷等多種加工工序才能最終製得鋁旋轉靶材成品。

生產方法

1、鋁的生產和提純：鋁是從鋁土礦中提取Al2O3，再在熔融冰晶石中電解而得到的，純度一般在99%以上，但這樣純度的鋁根本無法作為生產鋁靶材的原材料，鋁靶材對鋁材的符煉鑽循第一個要求也是最重要的要求就是純度要高，鋁靶材所用的高純鋁是再經過偏析法、三層電解法或聯合區域熔煉法生產而成的，價格要比工業純鋁99.7貴很多，國內最高純度在99.9999%（6N）左右。

2、鋁靶材的變形處理：有了高純度鋁錠作為原材料，對原材料進行鍛造、軋制、熱處理等，使鋁錠內晶粒變細小、致轎淚她密度增加以滿足濺射所需鋁靶材的要求。

3、對變形處理後的高純度鋁材料進行機械加工，鋁靶材加工要求精度高、表面質量高，加工舉照霸謎成真空鍍膜機所需的靶材尺寸就可以了，鋁靶材與鍍膜機多以螺紋相連線。

概況

靶材名稱	鋁靶材
常用純度	99.9%（3N)	99.99%(4N）	99.999%（5N)	99.9999%(6N）
常用尺寸	100*40mm
最大尺寸	長3000mm

展望

隨著電子行業的飛速發展，對鋁靶材的要求也在一步步增加，鋁靶材的純度和市場規範化、產品標準化還有待國家相關技術的員的共同努力！