《真空蒸發制鏡鍍膜設備技術條件》是1992年7月1日實施的一項行業標準。
基本介紹
- 中文名：真空蒸發制鏡鍍膜設備技術條件
- 實施日期：1992-07-01
- 發布日期：1991-07-15
- 標準號：JB/T 5579-1991
- 制修訂：制定
- 批准發布部門：機械電子工業部
備案信息
備案號：0335-1992
《真空蒸發制鏡鍍膜設備技術條件》是1992年7月1日實施的一項行業標準。
《真空蒸發制鏡鍍膜設備技術條件》是1992年7月1日實施的一項行業標準。備案信息備案號：0335-1992...
真空蒸發卷繞鍍膜機是一種用於物理學、力學、信息科學與系統科學、計算機科學技術領域的物理性能測試儀器，於2019年12月16日啟用。技術指標 1、卷膜條件： 卷膜有效幅寬 1050mm 卷膜最大直徑 ф400mm 卷繞芯軸直徑 ф100mm（3寸不鏽鋼芯軸） 常用卷繞速度 0.5～10m/min 卷繞張力控制 5～50N 張力控制方式 直接...
真空熱蒸發鍍膜設備 真空熱蒸發鍍膜設備是一種用於材料科學領域的分析儀器，於2014年12月4日啟用。技術指標 真空室極限真空度達5*10-5Pa,漏率為關機12小時小於5Pa。主要功能 真空冶煉。
於2016年06月01日啟用。技術指標 系統的極限壓強可達≤2x10-7Torr;三組熱阻蒸發源;可儲存100個工藝，1000層，50種薄膜;最大轉速可達20轉/分鐘;最高加熱溫度不低於350℃。主要功能 真空蒸發鍍膜是一種由物理方法產生薄膜材料的技術。該設備被廣泛套用於在基底上製備均勻材料薄膜，從而對基底表面進行改性。
① 檢查真空鍍膜機各操作控制開關是否在"關"位置。② 打開總電源開關，設備送電。③ 低壓閥拉出。開充氣閥，聽不到氣流聲後，啟動升鐘罩閥，鐘罩升起。④ 安裝固定鎢螺旋加熱子。把PVDF薄膜和鋁蓋板固定在轉動圓盤上。把鋁絲穿放在螺旋加熱子內。清理鐘罩內各部位，保證無任何雜質污物。⑤ 落下鐘罩。⑥ 啟動抽...
真空蒸鍍，簡稱蒸鍍，是指在真空條件下，採用一定的加熱蒸發方式蒸發鍍膜材料（或稱膜料）並使之氣化，粒子飛至基片表面凝聚成膜的工藝方法。蒸鍍是使用較早、用途較廣泛的氣相沉積技術，具有成膜方法簡單、薄膜純度和緻密性高、膜結構和性能獨特等優點。原理 蒸鍍的物理過程包括：沉積材料蒸發或升華為氣態粒子→...
高真空蒸發鍍膜設備 高真空蒸發鍍膜設備是一種用於數學領域的分析儀器，於2014年10月1日啟用。技術指標 40.6KVA，380V。主要功能 高真空蒸發鍍膜設備。
此技術最先套用於製造香菸的內包裝紙，隨後套用於製造糖果、茶葉的包裝袋材料，後被廣泛套用於包括制鏡在內的各種需要鍍膜的工件上，可以達到意想不到的效果和功能。有多種金屬可用作蒸鍍金屬的原材料，但是在包裝技術領域中用得最廣、最普遍、且最有實用經濟價值的應首推鋁(具有高純度的鋁材)在直接真空蒸鍍法中...
高真空蒸發鍍膜系統 高真空蒸發鍍膜系統是一種用於信息科學與系統科學領域的工藝試驗儀器，於2015年10月10日啟用。技術指標 有機小分子與金屬分為兩個蒸發腔體。主要功能 蒸發電子器件功能薄膜。
《真空鍍膜技術與設備（第2版）》是2021年冶金工業出版社出版的圖書。內容簡介 本書共分10章，系統闡述了各種真空鍍膜技術的基本概念、工作原理和套用，真空鍍膜機的結構、設計計算，蒸發源，磁控靶的設計計算，薄膜厚度的測量技術，薄膜與表面分析檢測技術；書中還介紹了近年來出現的新型薄膜材料石墨烯的製備方法和...
3.2.2分子束外延生長的條件、製備方法與特點81 3.2.3分子束外延生長參數選擇82 3.2.4影響分子束外延的因素83 3.2.5分子束外延裝置84 3.3脈衝雷射沉積技術(PLD)87 3.3.1PLD的基本原理及特點87 3.3.2PLD技術的套用88 3.4真空蒸發鍍膜設備89 3.4.1真空蒸發鍍膜機的類型及其結構89 3.4.2真空蒸發...
《真空鍍膜技術》共分10章，系統地闡述了真空鍍膜技術的基本慨念和基礎理論、各種薄膜製備技術、設備及工藝、真空卷繞鍍膜技術、ITO導電玻璃真空鍍膜工藝，尤其重點介紹了一些近年來新出現的鍍膜方法與技術，如反應磁控濺射鍍膜技術、中頻磁控濺射鍍膜和非平衡磁控濺射鍍膜技術等；還詳細介紹了薄膜沉積及膜厚的監控與測量...