基本介紹
- 中文名:濺射鍍
濺射鍍 sputtering depositsnn 用荷能粒子(通常為氣體止離子)轟擊靶材,使靶材表面部分原子逸出的現象r.若把零件放在靶材附近酌適當位置上,則從靶材飛出的原子便會...
濺射鍍膜技術是用離子轟擊靶材表面,把靶材的原子被擊出的現象稱為濺射。濺射產生的原子沉積在基體表面成膜稱為濺射鍍膜。通常是利用氣體放電產生氣體電離,其正離子...
磁控濺射是物理氣相沉積(Physical Vapor Deposition,PVD)的一種。一般的濺射法可被用於製備金屬、半導體、絕緣體等多材料,且具有設備簡單、易於控制、鍍膜面積大和附著...
離子濺射鍍膜法是離子濺射形成干涉膜是增進相間襯度顯示組織的新方法。...... 離子濺射鍍膜法是離子濺射形成干涉膜是增進相間襯度顯示組織的新方法。離子濺射鍍膜法...
真空鍍主要包括真空蒸鍍、濺射鍍和離子鍍幾種類型,它們都是採用在真空條件下,通過蒸餾或濺射等方式在塑件表面沉積各種金屬和非金屬薄膜,通過這樣的方式可以得到非常...
磁控濺射鍍膜是指將塗層材料做為靶陰極,利用氬離子轟擊靶材,產生陰極濺射,把靶材原子濺射到工件上形成沉積層的一種鍍膜技術。...
一般在0.1-10原子/離子。離子可以直流輝光放電(glow discharge)產生,在兩極間加高壓產生放電,正離子會轟擊負電之靶材而濺射也靶材,而鍍至被鍍物上。...
中文名稱 磁控濺射鍍 英文名稱 magnetron sputtering 定義 採用磁場束縛靶面附近電子運動的濺射鍍。 套用學科 機械工程(一級學科),表面工程(二級學科),氣相沉積(...
濺射對於遠程有彈道英雄就像分裂斬對於近戰英雄,它和分裂斬有相似也有不同的地方。最大的不同在於AoE在彈道擊到的目標處決定,而不是分裂斬由攻擊者站立的地方確定...
濺射工藝是以一定能量的粒子(離子或中性原子、分子)轟擊固體表面,使固體近表面的原子或分子獲得足夠大的能量而最終逸出固體表面的工藝。濺射只能在一定的真空狀態下...
濺射靶材的要求較傳統材料行業高,一般要求如,尺寸、平整度、純度、各項雜質含量、密度、N/O/C/S、晶粒尺寸與缺陷控制;較高要求或特殊要求包含:表面粗糙度、電阻...
真空磁控濺射技術是指一種利用陰極表面配合的磁場形成電子陷阱,使在E×B的作用下電子緊貼陰極表面飄移。設定一個與靶面電場正交的磁場,濺射時產生的快電子在正交的...
對濺射類鍍膜,可以簡單理解為利用電子或高能雷射轟擊靶材,並使表面組分以原子團或離子形式被濺射出來,並且最終沉積在基片表面,經歷成膜過程,最終形成薄膜。...
真空蒸鍍、濺射鍍和離子鍍幾種類型。它們都是採用在真空條件下,通過蒸餾或濺射等方式在塑件表面沉積各種金屬和非金屬薄膜,通過這樣的方式可以得到非常薄的表面鍍層,...
3.14 離子束濺射4 真空離子鍍膜4.1 離子鍍的類型4.2 真空離子鍍原理及成膜條件4.2.1 真空離子鍍原理4.2.2 真空離子鍍的成膜條件...
離子鍍膜加工包括濺射鍍膜和離子鍍兩種方式。離子濺射鍍膜是基於離子濺射效應的一種鍍膜方式,適用於合金膜和化合物膜的鍍制。...
真空鍍膜機主要指一類需要在較高真空度下進行的鍍膜,具體包括很多種類,包括真空離子蒸發,磁控濺射,MBE分子束外延,PLD雷射濺射沉積等很多種。主要思路是分成蒸發和濺射...
磁控濺射鍍膜玻璃利用磁控濺射技術可以設計製造多層複雜膜系,可在白色的玻璃基片上鍍出多種顏色,膜層的耐腐蝕和耐磨性能較好,是生產和使用最多的產品之一。真空...
真空鍍膜是指在高真空的條件下加熱金屬或非金屬材料,使其蒸發並凝結於鍍件(金屬、半導體或絕緣體)表面而形成薄膜的一種方法。例如,真空鍍鋁、真空鍍鉻等。...
真空鍍膜機主要指一類需要在較高真空度下進行的鍍膜,具體包括很多種類,包括真空蒸發鍍膜機、真空多弧離子鍍膜機、真空中頻磁控濺射鍍膜機、多功能中頻磁控濺射多弧...
真空蒸鍍、濺射鍍和離子鍍幾種類型。它們都是採用在真空條件下,通過蒸餾或濺射等方式在塑件表面沉積各種金屬和非金屬薄膜,通過這樣的方式可以得到非常薄的表面鍍層,...