磁控濺射鍍

磁控濺射鍍膜是指將塗層材料做為靶陰極,利用氬離子轟擊靶材,產生陰極濺射,把靶材原子濺射到工件上形成沉積層的一種鍍膜技術。...

中文名稱 磁控濺射鍍 英文名稱 magnetron sputtering 定義 採用磁場束縛靶面附近電子運動的濺射鍍。 套用學科 機械工程(一級學科),表面工程(二級學科),氣相沉積(...

真空鍍主要包括真空蒸鍍、濺射鍍和離子鍍幾種類型,它們都是採用在真空條件下,通過蒸餾或濺射等方式在塑件表面沉積各種金屬和非金屬薄膜,通過這樣的方式可以得到非常...

磁控濺射是物理氣相沉積(Physical Vapor Deposition,PVD)的一種。一般的濺射法可被用於製備金屬、半導體、絕緣體等多材料,且具有設備簡單、易於控制、鍍膜面積大和附著...

其正離子在電場作用下高速轟擊陰極靶體,擊出陰極靶體原子或分子,飛向被鍍基體...目前人們開發出了濺射速率較高的射頻濺射、三極濺射和磁控濺射技術。[1] ...

其次,二極濺射鍍膜的沉積速率低,10μm以上的厚膜不宜採用此法鍍制。二極濺射...隨著濺射鍍膜技術的發展,如磁控濺射鍍膜,裝置得到了更好的改善,如今二極濺射這種...

真空磁控濺射技術是指一種利用陰極表面配合的磁場形成電子陷阱,使在E×B的作用下電子緊貼陰極表面飄移。設定一個與靶面電場正交的磁場,濺射時產生的快電子在正交的...

磁控濺射法是在高真空充入適量的氬氣,在陰極(柱狀靶或平面靶)和陽極(鍍膜室壁) 之間施加幾百K 直流電壓,在鍍膜室內產生磁控型異常輝光放電,使氬氣發生電離。...

磁控濺射原理:電子在電場的作用下加速飛向基片的過程中與氬原子發生碰撞,電離出大量的氬離子和電子,電子飛向基片。氬離子在電場的作用下加速轟擊靶材,濺射出大量的...

磁控濺射是20世紀70年代迅速發展起來的新型我射技術。其鍍膜速率與二極濺射相比提高了一個數量級。1974 年Chapin 發明了適於工業套用的平面磁控濺射靶,對磁控濺射進...

磁控濺射鍍膜是一種新型的物理氣相鍍膜方式,就是用電子槍系統把電子發射並聚焦在被鍍的材料上,使其被濺射出來的原子遵循動量轉換原理以較高的動能脫離材料飛向基片...

磁控濺射隔熱膜又稱磁控濺射金屬膜,採用多層磁控濺射工藝打造而成,以持久反射隔熱的出色性能而著稱。由於其高清晰、高隔熱、高穩定、低內反光、色澤純正、永不退色...

如果採用金屬Cr靶,在N 2 氣氛中進行非平衡磁控濺射鍍膜,可以在工件上鍍覆Cr、CrN X 等鍍層,代替水溶液電鍍用於旋轉軸和其它運動部件。...

磁控濺射是由二極濺射基礎上發展而來,在靶材表面建立與電場正交磁場,解決了二極...從而生更緻密,結合力更強,更均勻的膜層,並可以較低的溫度下鍍出性能優良的...

磁控濺射鍍膜玻璃利用磁控濺射技術可以設計製造多層複雜膜系,可在白色的玻璃基片上鍍出多種顏色,膜層的耐腐蝕和耐磨性能較好,是生產和使用最多的產品之一。真空...

如反應磁控濺射鍍膜技術、中頻磁控濺射鍍膜和非平衡磁控濺射鍍膜技術等;還詳細介紹...4.2 真空離子鍍原理及成膜條件4.2.1 真空離子鍍原理4.2.2 真空離子鍍的成膜...

真空鍍膜設備,主要指一類需要在較高真空度下進行的鍍膜,具體包括很多種類,包括真空離子蒸發,磁控濺射,MBE分子束外延,PLD雷射濺射沉積等很多種。主要思路是分成蒸發和...

目前鍍膜玻璃的製造方法有很多,主要有真空磁控濺射法和溶膠凝膠法等。真空磁控...相比未鍍增透塗層的太陽能電池封裝玻璃在400nm-1050nm波長範圍內均增加2.5%以上...

真空鍍膜的功能主要是賦予被鍍件表面具有高度的金屬光澤和鏡面效果,尤其在車燈罩...其中,磁控濺射法由於鍍膜層和基材的結合力強,鍍膜層緻密、均勻等優點,更具有...

3.1.5磁控濺射法生產鍍膜玻璃的特點66 3.1.6磁控濺射法生產鍍膜玻璃的注意事項...玻璃鍍膜是在普通平板玻璃表面塗鍍一層或多層金屬、合金或金屬化合物薄膜,以改變...