濺射清洗表面是指摩擦、磨損表面、化工腐蝕表面、離子注入改性表面、飩化膜、表面塗層以及各種失效器件表面分析研究等樣品,其表面狀態比較複雜,它們大多直接來自實際工作環境。對這類樣品進行表面分析研究時,一般採用氬離子束濺射清洗。即在UHV系統中,對樣品表面進行刻蝕去除表面污染。該方法的缺點是,濺射時會破壞表面的晶格結構;對某些組成複雜的合金或化合物,還存在擇優濺射從而影響化學組成測量的準確性。儘管如此,它仍然在常規表面分析時被普遍採用。
基本介紹
- 中文名:濺射清洗表面
- 出處:材料表面科學
濺射清洗表面是指摩擦、磨損表面、化工腐蝕表面、離子注入改性表面、飩化膜、表面塗層以及各種失效器件表面分析研究等樣品,其表面狀態比較複雜,它們大多直接來自實際工作環境。對這類樣品進行表面分析研究時,一般採用氬離子束濺射清洗。即在UHV系統中,對樣品表面進行刻蝕去除表面污染。該方法的缺點是,濺射時會破壞表面的晶格結構;對某些組成複雜的合金或化合物,還存在擇優濺射從而影響化學組成測量的準確性。儘管如此,它仍然在常規表面分析時被普遍採用。
濺射清洗表面是指摩擦、磨損表面、化工腐蝕表面、離子注入改性表面、飩化膜、表面塗層以及各種失效器件表面分析研究等樣品,其表面狀態比較複雜,它們大多直接來自實際工作環境。對這類樣品進行表面分析研究時,一般採用氬離子束濺射清洗...
濺射清洗 濺射清洗是2011年公布的材料科學技術名詞。定義 利用離子轟擊濺射作用,對材料表面進行清潔處理的過程。出處 《材料科學技術名詞》。
在所有乾性和濕性清洗材料表面的方法中,離子束清洗表面的作用最為徹底,而且清洗工藝靈活性最強。即使與一般離子束轟擊方法比較,由於離子束定向性強,工作氣體壓強低和離子濺射參數易於單獨控制,因此這種清洗方法從技術上說獨具一格。例如,採用傾斜入射離子束濺射襯底表面時,不僅可徹底清除表面的雜質異物層,而且可以...
低溫等離子清洗技術在金屬行業中的套用:金屬表面常常會有油脂、油污等有機物及氧化層,在進行濺射、油漆、粘合、健合、焊接、銅焊和PVD、CVD塗覆前,需要用低溫等離子處理來得到完全潔淨的表面。等離子清洗技術在電子電路及半導體領域?的套用:等離子表面處理這門工藝正套用於LCD、LED、 IC,PCB,SMT、BGA、引線框架、...
60KV30mA, 金屬源加速電源0~50KV30mA。主要功能 設備主要功能:1.離子束清洗:對待處理工件或樣品進行表面清洗。2.離子束濺射沉積:用低能濺射氣體離子源實現濺射沉積薄膜。3.金屬、氣體離子注入,混合注入、單注入、反衝注入。4.離子束輔助/增強沉積:用中高能氣體/金屬離子束對濺射沉積薄膜實現離子束增強沉積。
濺射鍍膜可分為直流濺射、射頻濺射和磁控濺射,其對應的輝光放電電壓源和控制場分別為高壓直流電、射頻(RF)交流電和磁控(M)場。 電漿鍍膜 在物理氣相沉積中通常採用冷陰極電弧蒸發,以固體鍍料作為陰極,採用水冷使冷陰極表面形成許多亮斑,即陰極弧斑。弧斑就是電弧在陰極附近的弧根。在真空條件下,用引弧針引...
放電清洗技術是通過物理濺射、化學濺射作用來減少離子轟擊感生解吸係數的一種方法。按放電模式分類,基本上有脈衝放電清洗、直流輝光放電清洗以及電子迴旋共振放電清洗等模式。放電清洗的效果可以用放電室的殘氣譜與器壁表面分析譜的變化來顯示。壁表面塗覆技術 壁表面塗覆技術包括原位升華吸氣技術和電漿化學沉積技術。...
從表面形貌可以看出,採用傳統磁控濺射CMS沉積出來的Cr塗層表面粗糙,晶粒比較粗大;從橫截面上看,CMS沉積的塗層呈現出典型的柱狀結構,緻密度低。相近參數下,PEMS技術沉積的Cr塗層表面光滑,無明顯的柱狀結構,而且非常緻密。這是由於熱鎢絲釋放的電子增加了電漿密度,劇烈的離子轟擊靶材使得塗層的緻密度增加。(...
離子鍍在真空條件下,利用氣體放電使氣體或被蒸發物質部分電離,並在氣體離子或被蒸發物質離子的轟擊下,將蒸發物質或其反應物沉積在基片上的方法。其中包括磁控濺射離子鍍、反應離子鍍、空心陰極放電離子鍍(空心陰極蒸鍍法)、多弧離子鍍(陰極電弧離子鍍)等。重要性 在航空及航宇工業中,各種飛機、飛彈、衛星、...
其正離子經高壓(1~5 kV)電場加速轟擊工件而沉積在工件表面。氬正離子有清洗工件表面作用,可使膜層附著力大為提高。類似的方法還有活性離子蒸鍍、高頻離子蒸鍍、空心陰極離子蒸鍍等。(4)離子刻蝕:工作原理與陰極濺射類似,但更精細,設備更複雜。工作氣體通常用氬氣。由於氬離子直徑只有零點幾納米,可以認為...
鍍金屬是常用的隔熱技術,在PET膜上通過真空蒸鍍或真空磁控濺射金屬鋁、銀、鎳等對紅外線有較高反射率的納米級金屬層;複合膠粘劑 由耐候性良好高透明的聚氨酯膠粘劑組成;UV吸收層 由特種UV吸收劑構成,可阻隔99%的紫外線;透明PET安全基層 由高強度、高透明PET聚酯膜組成,目的是把金屬層夾在中間,防止金屬氧化...
7.3 脈衝雷射濺射沉積薄膜 7.3.1 脈衝雷射濺射沉積薄膜的原理 7.3.2 脈衝雷射濺射沉積薄膜的發展 7.3.3 脈衝雷射濺射沉積薄膜的設備 7.3.4 脈衝雷射濺射沉積薄膜的理論 7.3.5 脈衝雷射濺射沉積薄膜的套用 7.4 雷射製備納米材料 7.4.1 雷射誘導化學氣相反應法 7.4.2 雷射蒸發冷凝法 7.4.3 雷射燒蝕...
用等離子增強化學氣相沉積方法,在矽片表面製作88納米,折射率2.05的氮化矽減反膜。5、鋁背場 利用濺射方法在矽片背面沉積一層鋁膜,然後在850℃下進行40分鐘的熱處理,一方面使鋁矽合金化,形成良好的歐姆接觸,另一方面,促使鋁向矽片內擴散,形成一層高鋁濃度摻雜的P⁺層,構成鋁背場。6、背面電極的製作 使...
20、水果汁與紅葡萄酒斑痕的清洗 服裝上的水果汁與紅葡萄酒斑痕,有幾種清洗方法,可根據情況選用。1、當水果汁或紅葡萄酒濺到白色衣物上時,先用乳汁浸泡,再用洗衣粉進行常規清洗。2、對剛濺射到衣物上的新鮮水果汁或紅葡萄酒,應立即換下,用食鹽撒在上面,然後用清水洗,再用洗衣粉或肥皂洗滌。3、顏色鮮艷...
施工安裝時,將保護膜揭去,露出膠層的一面貼於玻璃內表面(如果是特別設計用於外貼的膜,則貼與玻璃外表面)PET是一種耐久性強、堅固、高韌性、耐潮、耐高、低溫性均佳的材料。它清澈透明它本體染色、金屬化鍍層、磁控濺射、夾層合成等多種工藝處理,成為具有不同物性的膜,以適應於商業大樓、住宅、商店櫥窗、...
鍍膜工藝包括真空蒸發、濺射、離子塗敷及化學氣相沉積等。在製作攝像管、光電倍增管時,各類透明導電膜、光電陰極和光導靶面材料採用真空蒸塗的方法製成。顯像管螢光膜內表面常蒸鋁膜以防止螢光膜灼傷,也可提高管子的亮度和對比度。現代鍍膜工藝也被用來改變某些材料的表面狀態,製作陰極以及使陶瓷或其他介質表面低溫金屬...
μm. 該微結構的工藝流程如下: ①清洗矽基底(晶面(100),直徑101.6mm,厚度500 μm),甩光刻膠;②曝光及顯影,形成膠柱陣列;③ICP刻蝕出矽微柱陣列;④剝離,用去膠劑去除微柱陣列表面的光刻膠,清洗;⑤濺射,在微柱陣列表面濺射一層金作為微電極的集流體;⑥陰極電沉積,在微柱陣列表面沉積功能...
隨著半導體工業的急速發展,對拋光技術提出了新的要求,傳統的拋光技術(如:基於澱積技術的選擇澱積、濺射等)雖然也可以提供“光滑”的表面,但卻都是局部平面化技術,不能做到全局平面化,而化學機械拋光技術解決了這個問題,它是可以在整個矽圓晶片上全面平坦化的工藝技術。上市產品 矽材料拋光液、藍寶石拋光液、...
部分女性在性高潮時會有液體從尿道濺射出來,這種現象只是女性在性高潮時的射液現象,並不是尿失禁。噴射出來的液體量多達3~5ml甚至10~20ml;它無色、無味而且非常稀薄,從顏色、透明度和氣味上均與尿液不同,而且也不會留下污痕。女性射液與格蕾芬貝格點(又稱G點)息息相關,G點也稱為女性前列腺,位於陰道...
本課題依託於EAST托卡馬克裝置及其材料測試平台,開展使用翼形先進型防護導管的方法來緩解沉積層在第一鏡表面的形成與生長,探索不同結構導管維持第一鏡光學反射率機理;另一方面,系統地開展了射頻電漿清洗第一鏡實驗,深入研究了鏡材料、重複清洗和濺射損傷等因素對第一鏡反射率恢復的影響,並將該清洗技術成功應...
傳統銀纖維防輻射服普遍採用的銀纖維濺鍍工藝,通過分子的萃取模式,將防輻射服傳統工藝中的超導體——銀,打碎,以分子大小,與紡織纖維進行耦合連結,形成超密排列,並通過復鍍工藝,在纖維外形成隔氧層,實現對傳統工藝的極大提升。據悉,傳統濺鍍工藝中的銀是以物理形式附在紡織纖維上。由於工藝的精密度不夠,...
液體金屬或金屬粉沫直接噴射到熱玻璃表面上,隨著玻璃的冷卻,金屬膜層成為玻璃的一部分 。因此,該膜層堅硬耐用。這種方法生產的"Low-E"玻璃具有許多優點:它可以熱彎,鋼化,不必在中空狀態下使用,可以長期儲存。它的缺點是熱學性能比較差 。除非膜層非常厚,否則其"u"值只是濺射法"Low-E"鍍膜玻璃的一半。如果...
真空鍍膜設備主要指一類需要在較高真空度下進行的鍍膜,具體包括很多種類,包括真空離子蒸發,磁控濺射,MBE分子束外延,PLD雷射濺射沉積等很多種。主要思路是分成蒸發和濺射兩種。需要鍍膜的被成為基片,鍍的材料被成為靶材。 基片與靶材同在真空腔中。蒸發鍍膜一般是加熱靶材使表面組分以原子團或離子形式被蒸發出來,...
1、PBT絲的彈性較尼龍刷絲要好,但耐磨性不及610,PBT的性能較軟,最適用於精細部件的清洗去污,比如汽車表面清洗;2、尼龍610(PA66、PA6)刷絲抗磨損性能較好,具有耐高溫耐酸鹼等特性,彈性較好,適用於家庭除塵和清洗中毛刷部件,比如吸塵器滾刷、毛刷輥、毛刷平台等等;3、尼龍612或尼龍1010的彈性最好,成本也...
13.7濺射澱積 13.8電化學鍍膜 13.9化學機械工藝 13.10CVD金屬澱積 13.11金屬薄膜的用途 13.12真空系統 習題 參考文獻 第14章工藝和器件的評估 14.1引言 14.2晶圓的電特性測量 14.3工藝和器件評估 14.4物理測試方法 14.5層厚的測量 14.6柵氧化層完整性電學測量 14.7結深 14.8污染物和缺...
金屬蒸氣的濺射生成法 參考文獻 ……第五章氮化物防護層——表面合金的擴散處理 第六章 注入法鍊金術——離子注入表面改性 第七章工具的表面處理——功能塗層的表面工程學 第八章 電漿清洗機——一種精細的表面清洗技術 第九章生物材料與電漿——聚合物材料的表面改性 第十章 皇帝的盛裝——電漿紡織品...
通過反射可見光達到隔熱目的,特點是高反射性或類似於鏡面外觀,容易造成光污染,大多數都是單層金屬噴塗,且金屬塗層不均勻部分材料是由蒸發處理而成(例如:鋁), 或是通過濺射噴塗工藝而成(例如:鈦),不具光譜選擇性。高透光的同時不會阻隔大部分熱量,隔熱性能提高的同時以犧牲可見光為代價。吸收熱量型 熱控...
2004年8月,基於金屬膜對無線電信號的干擾和容易氧化等缺點,中國韶華科技公司攜手德國某著名工業研究機構共同開發融入納米蜂窩陶瓷技術,並將韶華科技獨有的真空濺射技術用於陶瓷隔熱膜的生產上,創造了獨一無二的琥珀陶瓷隔熱膜,解決了金屬膜無法逾越的技術問題。對無線電信號無任何干擾,特別是衛星的短波信號,絕不...
9.10濺射253 參考文獻254 第10章鎂合金的腐蝕防護技術255 10.1環境調整256 10.1.1水分256 10.1.2pH值257 10.1.3介質成分258 10.1.4緩蝕劑258 10.2表面清洗265 10.2.1機械清理265 10.2.2化學清洗266 10.3表面調製267 10.3.1離子注入267 10.3.2雷射表面處理268 10.3.3熱擴散269 10.3.4其他...
2.4.2 濺射 本章小結 思考與習題2 第3章 光刻 本章要點 3.1 光刻工藝的基本原理 3.2 光刻膠 3.2.1 負性光刻膠 3.2.2 正性光刻膠 3.2.3 正膠和負膠的性能比較 3.2.4 光刻膠的主要性能指標及測定方法 3.3 光刻工藝 3.3.1 預處理(脫水烘烤、HMDS)3.3.2 旋轉塗膠 3.3.3 軟烘 3....