雜質控制與壁處理技術

雜質控制與壁處理技術是指在實驗過程中對氣體的處理方法。

雜質控制

雜質控制是指在核聚變裝置的真空室中，為了減少器壁表面釋放雜質影響工作氣體的實驗過程，通過改善壁表面的物理相、化學組成和狀態活性等來控制進入到工作區域的雜質含量。雜質控制可以通過壁處理技術來實現。

壁處理技術

對器壁的處理技術包括預處理工藝、真空烘烤、放電清洗和第一壁表面塗覆技術等。預處理工藝即為容器出廠前的超聲清洗、電拋光等工藝。

真空烘烤

真空烘烤一直是超高真空系統器壁去氣的主要技術，它使器壁有效的熱解析出氣，從而降低光子、電子、離子解吸係數，大大降低器壁的出氣率，從而獲得超高真空。

放電清洗

放電清洗技術是通過物理濺射、化學濺射作用來減少離子轟擊感生解吸係數的一種方法。按放電模式分類，基本上有脈衝放電清洗、直流輝光放電清洗以及電子迴旋共振放電清洗等模式。放電清洗的效果可以用放電室的殘氣譜與器壁表面分析譜的變化來顯示。

壁表面塗覆技術

壁表面塗覆技術包括原位升華吸氣技術和電漿化學沉積技術。

原位升華吸氣技術是通過升華作用使具有吸氣性能的元素（如鈦）塗覆在真空室壁上，通過吸氣膜吸收真空環境中的氫、氧等成分以降低真空環境中的雜質含量。

電漿化學沉積技術是採用原位電漿輔助薄膜沉積技術對器壁表面進行塗覆，形成穩定性高的薄膜，以減少從器壁表面釋放的金屬雜質。