氬離子截面拋光儀是一種用於材料科學領域的工藝試驗儀器，於2015年11月18日啟用。
氬離子截面拋光儀是一種用於材料科學領域的工藝試驗儀器，於2015年11月18日啟用。技術指標兩把離子槍：加速電壓0.8kv-10kv可調，研磨速率：Cu:40um/h（8kv，3mA）單把離子槍30°照射角；SEM平面研...
利用氬離子刻蝕拋光，主要用於截面樣品的製備，適用於SEM、EBSD等；與普通拋光比較，更清晰展示材料內部結構；適合拋光焊縫截面，積體電路焊點，多層薄膜截面，顆粒、纖維斷面，複合材料、陶瓷、金屬及合金、礦物及其他無機非金屬等各種材料樣品...
氬離子拋光儀是一種用於工程與技術科學基礎學科、材料科學、礦山工程技術、機械工程領域的分析儀器，於2016年10月26日啟用。技術指標 減薄角度：+10o到-10o；離子槍束能量：0.1KeV~8 KeV；離子槍：雙束聚焦離子槍，無耗件；樣品交換...
由於氬離子對樣品的表面是進行原子級別的層層剝離，最終可以達到對樣品表面進行精細拋光的作用。經過氬離子拋光後的岩石或微孔隙樣品具有光滑的截面，而不會出現機械研磨造成的樣品機械損傷，從而可以用來觀察岩石或微孔隙樣品的儲層結構、定量...
氬離子束拋光儀是一種用於地球科學領域的分析儀器，於2016年12月21日啟用。技術指標 離子槍：兩隻潘寧式離子槍，裝載微小磁鐵，聚焦離子束設計，離子槍角度：+10°到-10°，每隻離子槍可獨立調節，離子槍束能量：0.1keV～8keV，具有...
截面拋光儀是一種用於數學領域的分析儀器，於2016年4月1日啟用。技術指標 離子加速電壓 2 ～ 8 kV 離子束直徑 500μm以上(半高寬) 研磨速率 500 μm/h最大樣品尺寸 11 mm（寬） × 10 mm（長） × 2 mm（高）。主要功能 ...
氬離子截面拋光儀是一種用於材料科學領域的工藝試驗儀器，於2015年11月18日啟用。技術指標 兩把離子槍：加速電壓0.8kv-10kv可調，研磨速率：Cu:40um/h（8kv，3mA）單把離子槍30°照射角；SEM平面研磨樣品台最大樣品尺寸Φ25mm×12mm...
