曝光格線

曝光格線是在積體電路製造技術光刻工藝中，使用步進式光刻機對晶圓曝光時，單次每個曝光區域被稱為一個曝光格線。

基本介紹

• 中文名：曝光格線
• 外文名：Exposure Grid

通常情況下，同一次曝光中曝光格線的尺寸是一定的，一種典型的完整格線尺寸約為32mm*26mm。光刻機在進行對準操作準備曝光時，會先確定每個曝光格線的位置。這是對準系統通過獲得對準標記的坐標，經過計算求得曝光格線中心位置，將格線中心用直線相連便得到了晶圓上曝光區域的格線分布。