基本介紹
- 中文名:曝光區域
- 外文名:exposure field
在光刻工藝中,光刻機單次實現曝光所能支持的最大區域範圍為曝光區域。...... 光刻工藝中,在曝光時,實際晶片可能小於這個尺寸,光刻機的曝光區域必須能夠隨之做調...
美國著名攝影家安塞爾·亞當斯的區域曝光理論,是半個多世紀以來攝影科學的基本理論之一。...
曝光格線是在積體電路製造技術光刻工藝中,使用步進式光刻機對晶圓曝光時,單次每個曝光區域被稱為一個曝光格線。...
《解讀亞當斯區域曝光系統》以淺顯易懂的語言為你講述亞當斯的經典理論——區域曝光,通過結合傳統和數字影像的特點,講解區域曝光系統原理,介紹如何在具體拍攝中認識並...
曝光劑量修正(dose mapper, DOMA)是ASML光刻機的一項功能,它能對曝光劑量做修正,提高曝光區域之間和曝光區域內部的線寬均勻性(inter-field CDU)和(intra-field ...
在攝影中,曝光值(Exposure Value,EV)代表能夠給出同樣曝光的所有相機光圈快門組合。這一概念是在一九五零年代在德國發展起來的,被試圖用以簡化在等價的拍攝參數之間...
《數碼攝影區域曝光技術與實拍案例》是2012年出版的圖書,作者是Lee Varis 著 常征 黃玉榮 。...
《攝影曝光基礎》是2007年中國攝影出版社出版的圖書,作者是張景山。本書主要以深入淺出的語言,分別對攝影曝光原理、影響曝光的因素、拍攝不同題材應如何選擇測光方法...
適當地曝光底片,我們就能找回我們莫名其妙、或多或少地損失了在原場中可以看到的那些明快的顏色和色調。...
多重曝光(multiple exposure)是攝影中一種採用兩次或者更多次獨立曝光,然後將它們重疊起來,組成單一照片的技術方法。由於其中各次曝光的參數不同,因此最後的照片會...
多次曝光技術是在一張頁片或一幅膠片上拍攝幾個影像。同一個物體可以拍攝幾次,或者將幾個不同的物體拍攝在一起。多次印放是用一張底片在同一張相紙上反覆曝光...
曝光寬容度也被稱為曝光裕度,是工藝視窗的重要參數之一。常用曝光寬容度來表征顯影的寬容度。...
雙重曝光(Double Exposure, DE)是指在光刻膠覆蓋的晶片上分別進行兩次曝光。兩次曝光是在同樣的光刻膠上進行的,但使用不同的掩模版[1]。...
《攝影曝光藝術》以讀者對曝光技術有一定的了解為基礎,不僅從曝光基礎知識、操控曝光、曝光實戰、創意曝光、閃光燈攝影、後期處理等諸多方面教授攝影愛好者如何精通攝影...
電子束曝光(electron beam lithography)指使用電子束在表面上製造圖樣的工藝,是光刻技術的延伸套用。光刻技術的精度受到光子在波長尺度上的散射影響。使用的光波長越...
1. 致命曝光 Fatal Exposure (1989) .豆瓣.2015-02-10[引用日期2016-05-15] 詞條標籤: 娛樂 V百科往期回顧 詞條統計 瀏覽次數:次 編輯次數:2次歷史版本 最...
圖書簡介曝光,是攝影中*基礎的技術之一,但同時,曝光又是無比複雜的,攝影師通過不同的曝光技術,可以讓作品表達豐富的情感和情緒。正確理解曝光的原理和方法對於攝影...
掃描步進投影曝光(Scanning-Stepping Project Printing)。90年代末~至今,用於≤0.18μm工藝。採用6英寸的掩膜板按照4:1的比例曝光,曝光區域(Exposure Field)26×...
其主要過程為:首先紫外光通過掩膜版照射到附有一層光刻膠薄膜的基片表面,引起曝光區域的光刻膠發生化學反應;再通過顯影技術溶解去除曝光區域或未曝光區域的光刻膠...
寬動態技術是在非常強烈的對比下讓攝像機看到影像的特色而運用的一種技術。當在強光源(日光、燈具或反光等)照射下的高亮度區域及陰影、逆光等相對亮度較低的區域...