基本介紹
- 中文名:曝光劑量修正
- 外文名:Dose mapper
曝光劑量的修正包括兩個部分:一個是不同曝光區域之間的修正,即根據平均線寬的不同,對曝光區域加一個劑量修正(見圖1)。另一個是曝光區域內部的修正,這個比較複雜。導致曝光區域內部CD不均勻的原因可能有兩個:一個是沿曝光縫隙(exposure slit)曝光能量的不均勻,即X方向CD的不均勻性;另一個是曝光掃描時能量的不均勻,即Y方向CD的不均勻性(見圖2)。X方向的線寬不均勻性可以通過調整光強沿縫隙的分布來補償,這種光強修正被稱為“Unicom”。Y方向的線寬不均勻性可以通過調整掃描的速度來補償,這種修正被稱為“Dosicom”。
為了精確地確定沿曝光縫隙的光強分布,一般要求沿縫隙(X方向)測量11個點,而掃描方向(Y方向)測量33個點。然後,對Y方向測量的點做平均,得到光強沿縫隙的分布,如圖3所示。
Intra-field CD能夠通過晶圓的CD反饋到DOMA程式加以修正,這種修正是基於標記點和掃描誤差來確定。掃描誤差包括照明的不均勻性和透鏡畸變。但是,通過上述兩種方法來做修正這個過程是冗長繁瑣的。一種新穎的方法是把晶圓格線化並測量曝光情況,把這個測量檔案作為校正檔案加入到DOMA。這個校正檔案包含傳輸圖和CD特性。