曝光劑量修正

曝光劑量修正

曝光劑量修正(dose mapper, DOMA)是ASML光刻機的一項功能,它能對曝光劑量做修正,提高曝光區域之間和曝光區域內部的線寬均勻性(inter-field CDU)和(intra-field CDU)。具體的做法是,首先測量整個晶圓上的線寬數據,然後把這些數據上載到光刻機DOMA伺服器。伺服器根據事先設定的(線寬-曝光能量關係)參數,計算出曝光劑量的修正值在晶圓表面的分布。這一曝光劑量的修正以子程式(dosemapper sub-recipe)的方式連結在下一次的曝光檔案中。

基本介紹

  • 中文名:曝光劑量修正
  • 外文名:Dose mapper
曝光劑量的修正包括兩個部分:一個是不同曝光區域之間的修正,即根據平均線寬的不同,對曝光區域加一個劑量修正(見圖1)。另一個是曝光區域內部的修正,這個比較複雜。導致曝光區域內部CD不均勻的原因可能有兩個:一個是沿曝光縫隙(exposure slit)曝光能量的不均勻,即X方向CD的不均勻性;另一個是曝光掃描時能量的不均勻,即Y方向CD的不均勻性(見圖2)。X方向的線寬不均勻性可以通過調整光強沿縫隙的分布來補償,這種光強修正被稱為“Unicom”。Y方向的線寬不均勻性可以通過調整掃描的速度來補償,這種修正被稱為“Dosicom”。
圖2 曝光區域內部的能量不一樣(intra-field修正)圖2 曝光區域內部的能量不一樣(intra-field修正)
為了精確地確定沿曝光縫隙的光強分布,一般要求沿縫隙(X方向)測量11個點,而掃描方向(Y方向)測量33個點。然後,對Y方向測量的點做平均,得到光強沿縫隙的分布,如圖3所示。
圖3 自由形式光源示意圖圖3 自由形式光源示意圖
Intra-field CD能夠通過晶圓的CD反饋到DOMA程式加以修正,這種修正是基於標記點和掃描誤差來確定。掃描誤差包括照明的不均勻性和透鏡畸變。但是,通過上述兩種方法來做修正這個過程是冗長繁瑣的。一種新穎的方法是把晶圓格線化並測量曝光情況,把這個測量檔案作為校正檔案加入到DOMA。這個校正檔案包含傳輸圖和CD特性。

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