掃描電子束曝光系統是研製成功時間為1965年的劍橋儀器公司生產的系統。
基本介紹
- 中文名：掃描電子束曝光系統
- 研製成功時間：1965年
- 研製者 ：T. H. P. Chang
- 投入市場單位：劍橋儀器公司
世界上第一台掃描電子束曝光系統於1965年T. H. P. Chang在劍橋大學研製成功，並由劍橋儀器公司作為商品投入市場。
電子束曝光技術是在電子顯微鏡的基礎上發展起來的，其研究和發展始於20 世紀60年代初。1960年，由德國杜平根大學的G. Mollenstedt和R. Speidel 首次提出利用電子顯微鏡在薄膜上製作高解析度圖形。1964年英國劍橋大學的A. N. Broers發表了利用電子束製作1微米線條的技術。1970年法國湯姆遜公司（Thomson CSF）首先成功地將雷射干涉定位系統套用於電子束曝光系統，組成了一台完善的電子束曝光機。20世紀70年代到80年代人們研究開發了一系列新技術，如成形電子束、可變矩形電子束、光柵掃描曝光技術等。一批高性能的電子束曝光機被相繼推上市場。由於電子束曝光技術具有極高的解析度和靈活性，它在亞微米和納米器件的研製和生產中發揮著重要作用。同時由於電子束曝光可以直接製備版圖，且版圖易修改，因此在掩模版製作方面，一直處於重要的地位。
