基本介紹
- 中文名:工業CT
- 外文名:industrial computerized tomography
- 全稱:工業用計算機斷層成像技術
- 套用:汽車、材料、鐵路、航天等
- 檢測範圍:主要說明該CT系統的檢測對象
概念說明,技術原理,性能指標,工業套用,工業CT部件的發展現狀,輻射源,探測器,樣品掃描系統,
概念說明
工業CT是工業用計算機斷層成像技術的簡稱,它能在對檢測物體無損傷條件下,以二維斷層圖像或三維立體圖像的形式,清晰、準確、直觀地展示被檢測物體的內部結構、組成、材質及缺損狀況,被譽為當今最佳無損檢測和無損評估技術。工業CT技術涉及了核物理學、微電子學、光電子技術、儀器儀表、精密機械與控制、計算機圖像處理與模式識別等多學科領域,是一個技術密集型的高科技產品。
工業CT廣泛套用在汽車、材料、鐵路、航天、航空、軍工、國防等產業領域,為航天運載火箭及飛船與太空飛行器的成功發射、航空發動機的研製、大型武器系統檢驗與試驗、地質結構分析、鐵道車輛提速重載安全、石油儲量預測、機械產品質量判定等提供了的重要技術手段。
技術原理
工業CT是在射線檢測的基礎上發展起來的,其基本原理是當經過準直且能量I0的射線束穿過被檢物時,根據各個透射方向上各體積元的衰減係數從不同,探測器接收到的透射能量I也不同。按照一定的圖像重建算法,即可獲得被檢工件截面一薄層無影像重疊的斷層掃描圖像(圖1),重複上述過程又可獲得一個新的斷層圖像,當測得足夠多的二維斷層圖像就可重建出三維圖像。當單能射線束穿過非均勻物質後,其衰減遵從比爾定律: 即
式中 、 為已知量,未知量為μ。一幅M×N個像素組成的圖像,必須有M×N個獨立的方程才能解出衰減係數矩陣內每一點的μ值。當射線從各個方向透射被檢物體,通過掃描探測器可得到MXN個射線計數和值,按照一定的圖像重建算法,即可重建出MXN個μ值組成的二維CT灰度圖像。
性能指標
工業套用
工業CT現有X射線斷層掃描(XCT)、康普頓散射斷層掃描(CST)、穆斯堡爾效應斷層掃描(MCT)等。主要套用於工業線上過程的實時檢測和大型工業部件的探查。工業CT與傳統的X射線探傷和超音波探傷相比,具有空間解析度高、無損檢測、速度快等特點,因而在工業產品的檢測中具有其他方法無可取代的作用。在實時檢測方面,可用於線上檢測熱軋無縫鋼管中的氣孔、劃痕、裂縫、分層等各種缺陷,同時給出鋼管的壁厚、同心度、單位長度的重量等;亦可用於發電設備的實時檢測。在大型部件檢測方面,特別適用於火箭、核燃料元件、彈藥、飛機發動機等的無損檢測。大型工業CT的主要技術指標大約為待測物體直徑1—2.5米,有效掃描高度2—8米,最大承重可達數十噸,空間解析度為1線對/毫米,密度解析度0.5%,裂紋分辨0.05毫米×15毫米,掃描時間每層3分鐘,圖像重建時間6秒,工作檯平移空位精度0.02毫米,工作檯旋轉空位精度10角秒。所用的輻射裝置可用X射線機、加速器,亦可用60Co、137Cs或192Ir的γ射線源。
工業CT部件的發展現狀
輻射源
射線源常用X射線機和直線加速器。X射線機的峰值能量範圍從數十到450 keV,且射線能量和強度都是可調的;直線加速器的射線能量一般不可調,常用的峰值射線能量範圍在1一16 MeV。其共同優點是切斷電源以後就不再產生射線,焦點尺寸可做到微米量級。
探測器
目前常用的探測器主要有高分辨CMOS半導體晶片、平板探測器和閃爍探測器三種類型。半導體晶片具有最小的像素尺寸和最大的探測單元數,像素尺寸可小到10 μm左右。平板探測器通常用表面覆蓋數百微米的閃爍晶體(如CsI)的非晶態矽或非晶態硒做成,像素尺寸約127 μm,其圖像質量接近於膠片照相。閃爍探測器的優點是探測效率高,尤其在高能條件下,它可以達到16 ~ 20 bit的動態範圍,且讀出速度在微秒量級。其主要缺點是像素尺寸較大,其相鄰間隔(節距)一般≥0. 1 mm。
樣品掃描系統
樣品掃描系統從本質上說是一個位置數據採集系統。工業CT常用的掃描方式是平移一旋轉((TR)方式和只旋轉(RO)方式兩種。RO掃描方式射線利用效率較高,成像速度較快。但TR掃描方式的偽像水平遠低於RO掃描方式,且可以根據樣品大小方便地改變掃描參數(採樣數據密度和掃描範圍)。特別是檢測大尺寸樣品時其優越性更加明顯,源探測器距離可以較小,以提高信號幅度等。