多靶磁控濺射鍍膜是一種用於物理學領域的物理性能測試儀器，於2017年09月01日啟用。
基本介紹
- 中文名：多靶磁控濺射鍍膜
- 產地：中國
- 學科領域：物理學
- 啟用日期：2017年09月01日
- 所屬類別：物理性能測試儀器
技術指標,主要功能,
技術指標
（1）濺射室極限真空度2×10－5帕，系統大氣抽取60分鐘可以達到5×10－4，停機12小時後真空度≤10帕。（2）通過二路MFC質量流量控制器充工作氣體，每路氣體單獨控制。MFC流量範圍：一路200SCCM（V2氬氣）、一路100SCCM（V3氧氣）。通過（V4充氣閥）充入乾燥氣體（氮氣）放氣。（3）冷卻系統水溫自動控制。（4）採用3組Φ2英寸永磁圓形平面磁控濺射靶，基片台和磁控靶110～130mm距離可調，並有調位距離指示；三套靶電動擋板，每個靶前面配有一套靶擋板，電動控制可遮擋三個工件位置；靶在下，基片在上，向上濺射成膜；RF、DC兼容，靶內有水冷；靶材2英寸；（留有一組蒸發安裝法蘭）靶配有單獨的禁止罩。（5）轉盤上可以同時放置4個基片，可放置小於Φ60mm的基片。四個工位中，其中1號工位安裝加熱爐，其餘3個工位為自然冷卻基片台。基片加熱最高溫度500℃，由熱電偶閉環反饋控制。在步進電機+減速器+同步帶帶輪傳動機構帶動下，實現0～360°公轉。
主要功能
生長各種金屬薄膜，低溫真空退火薄膜。
