多功能離子束濺射鍍膜機是一種用於材料科學、機械工程領域的工藝試驗儀器,於2011年4月22日啟用。
基本介紹
- 中文名:多功能離子束濺射鍍膜機
- 產地:中國
- 學科領域:材料科學、機械工程
- 啟用日期:2011年4月22日
- 所屬類別:工藝試驗儀器 > 加工工藝實驗設備
多功能離子束濺射鍍膜機是一種用於材料科學、機械工程領域的工藝試驗儀器,於2011年4月22日啟用。
多功能離子束濺射鍍膜機是一種用於材料科學、機械工程領域的工藝試驗儀器,於2011年4月22日啟用。技術指標兩個濺射離子源+一個輔助沉積離子源+中能離子源。1主要功能離子束濺射、離子注入。1...
多功能離子鍍膜機 多功能離子鍍膜機是一種用於物理學領域的分析儀器,於2008年9月3日啟用。技術指標 電子束電流200A,50V,磁控濺射5A,1000V,陰極電弧200A,60V。主要功能 用於功能薄膜的沉積和材料改性。
KyKy多功能真空離子鍍膜機是一種用於工程與技術科學基礎學科、測繪科學技術領域的分析儀器,於2005年11月14日啟用。技術指標 鐘罩尺寸:內徑Φ250mm×高度340mm 玻璃處理室:內徑Φ88mm×高度140mm 內徑:Φ88mm×高度57mm 試樣台尺寸:...
樣品尺寸最大為Ф30mm。配有樣品擋板。主要功能 單室結構的高真空多功能離子束濺射鍍膜設備,可用於開發納米級的單層及多層功能膜:各種硬質膜、金屬膜、半導體膜、介質膜等。廣泛套用於超導,陶瓷機械,耐蝕,催化等領域的表面改性。
多功能磁控濺射鍍膜是一種用於信息與系統科學相關工程與技術領域的工藝試驗儀器,於2014年05月09日啟用。技術指標 系統極限真空:濺射室:系統經烘烤,可達8×10-6Pa;永磁靶直徑Φ50㎜, 直流電源一台;樣品可自轉,一次可鍍一片;...
真空鍍膜機主要指一類需要在較高真空度下進行的鍍膜,具體包括很多種類,包括真空電阻加熱蒸發,電子槍加熱蒸發,磁控濺射,MBE分子束外延,PLD雷射濺射沉積,離子束濺射等很多種。主要思路是分成蒸發和濺射兩種。簡介 需要鍍膜的被稱為基片...
主要功能 超高真空多靶磁控濺射鍍膜機是帶有進樣室的超高真空多功能測控濺射鍍膜設備,可用於在超高真空背景下,充入高純氬氣,採用磁控濺射方式製備各種金屬膜、介質膜、半導體膜,而且又可以較好地濺射鐵磁材料製備磁性薄膜。