反應離子束刻蝕系統是一種用於物理學領域的科學儀器，於2015年12月25日啟用。
基本介紹
- 中文名：反應離子束刻蝕系統
- 產地：英國
- 學科領域：物理學
- 啟用日期：2015年12月25日
技術指標,主要功能,
技術指標
配備了6路帶質量流量計的工藝氣路： SF6， CF4，CHF3，O2，N2, Ar。
主要功能
刻蝕二氧化矽、氮化矽介質膜。
反應離子束刻蝕系統
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