《制膜裝置及方法》是富士膠片株式會社於2017年3月2日申請的專利，該專利公布號為CN107150424B，專利公布日為2021年6月8日，發明人是勝俁俊博、尾堂太亮、田中宏昌、池山昭弘。
基本介紹
- 中文名：制膜裝置及方法
- 授權公告號 ：CN107150424B
- 授權公告日 ：2021.06.08
- 申請號 ：2017101208903
- 申請日：2017.03.02
- 專利權人：富士膠片株式會社
- 地址：日本東京
- 發明人：勝俁俊博; 尾堂太亮; 田中宏昌; 池山昭弘
- Int. Cl.：B29C41/28(2006.01)I; B29C41/34(2006.01)I; B29C41/52(2006.01)I; B29L7/00(2006.01)N
- 專利代理機構：永新專利商標代理有限公司72002
- 代理人：房永峰
- 優先權：2016-040038 2016.03.02 JP; 2016-250582 2016.12.26 JP
對比檔案,專利摘要,
對比檔案
CN 103375485 A,2013.10.30; JP 特開2013-18180 A,2013.01.31; CN 101657763 A,2010.02.24; JP 特開2008-221761 A,2008.09.25
專利摘要
本發明提供能夠提高引導輥的耐磨損性的制膜裝置及方法。溶液制膜裝置(10)經過向帶(30)連續地流延塗料(12)從而形成流延膜(36)的步驟、以及從帶(30)剝離流延膜(36)並通過拉幅機(22)及輥乾燥機(24)進行乾燥的步驟來製造薄膜(14)，帶(30)形成為環狀、被架設於旋轉滾筒(32a、32b)並在流延位置PC與剝取位置PP間循環地行駛。在旋轉滾筒(32a)、(32b)之間，配置有使外周面與帶(30)抵接且從下方支承帶(30)的引導輥(70)。引導輥(70)由RTI為150℃以上的樹脂形成外周面。
