全反射X射線螢光光譜儀

全反射X射線螢光光譜儀是一種用於材料科學領域的分析儀器，於2016年11月28日啟用。

基本介紹

• 中文名：全反射X射線螢光光譜儀
• 產地：德國
• 學科領域：材料科學
• 啟用日期：2016年11月28日
• 所屬類別：分析儀器 > X射線儀器 > X射線螢光光譜儀

技術指標

可分析元素範圍：Al~U（靶元素和與靶元素干擾嚴重的元素除外） 濃度範圍：10-9~100% 檢出限：Ni≤2pg 激發源：最大功率≥30W；最大激發電壓≥50kV，最大激發電流≥1mA 探測器：SDD探測器，活性面積≥30mm2，能量解析度≤145eV（Mn Kα）， 最大計數率≥100kcps 測量強度的重複性：RSD≤1%（扣除技術統計誤差）。

主要功能

用於分析液體、粉末、固體樣品中常量、次量和痕量元素的快速分析，能夠迅速準確分析從Al~U（除惰性氣體及少部分元素外）的所有元素，含量範圍從10-9~100%。