X-射線光電子能譜儀

X-射線光電子能譜儀

X-射線光電子能譜儀是一種用於材料科學領域的分析儀器,於2014年3月18日啟用。

基本介紹

  • 中文名:X-射線光電子能譜儀
  • 產地:英國
  • 學科領域:材料科學
  • 啟用日期:2014年3月18日
  • 所屬類別:分析儀器 > X射線儀器 > X射線能譜儀
技術指標,主要功能,

技術指標

指標:(1) 分析室真空度優於5×10-9 mbar;(2) 能量解析度≤0.5eV (對Ag3d5/2峰的半高寬,乾淨的銀標樣);(3) 最佳空間解析度≤30 µm;(4) 微聚焦單色化(Al Kα)X射線源,其中:束斑面積從400 μm至30 μm連續可調;束斑為400 μm,Ag3d5/2峰的半高寬≤1.0 eV時,計數率≥2,000,000 cps;束斑為100 μm,Ag3d5/2峰的半高寬≤1.0 eV時,計數率≥750,000 cps;束斑為50 μm,Ag3d5/2峰的半高寬≤1.0 eV時,計數率≥50,000 cps;(5) 離子槍的能量範圍:100 eV~3000 eV;最大束流為4μA。

主要功能

用途:進行纖維、織物和高分子材料的高精度表面化學分析和表征,確定樣品表面的元素組成、化學態和元素相對含量的信息。

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