XPS光電子譜儀是一種用於化學領域的分析儀器，於2014年11月5日啟用。
XPS光電子譜儀是一種用於化學領域的分析儀器，於2014年11月5日啟用。技術指標1. X射線源 靶：單色化Al靶、雙陽極Al/Mg靶 能量解析度：0.45eV/（Ag 3d5/2） 0.82eV/（C 1s） 最小分析...
XPS光電子能譜儀是一種用於材料科學領域的分析儀器，於2018年9月11日啟用。技術指標 1. AlKα/AgLα單色化雙陽極XPS 1.1 *射線源類型：水冷Al/Ag靶射線源； 1.2 *最大功率：不低於500W； 1.3 單色器：500mm羅蘭圓石英晶體...
以X射線為激發光源的光電子能譜，簡稱XPS或ESCA。處於原子內殼層的電子結合能較高，要把它打出來需要能量較高的光子，以鎂或鋁作為陽極材料的X射線源得到的光子能量分別為1253.6ev和1486.6ev，此範圍內的光子能量足以把不太重的原子...
根據光源的不同，光電子能譜可分為:1、紫外光電子能譜UPS（Ultroviolet Photoelectron Spectrometer）；2、X射線光電子能譜XPS（X-Ray Photoelectron Spectrometer ）3、俄歇電子能譜AES(Auger Electron Spectrometer)。X射線光電子能譜法：...
X射線光電子能譜學（英文：X-ray photoelectron spectroscopy，簡稱XPS）XPS主要套用是測定電子的結合能來鑑定樣品表面的化學性質及組成的分析，其特點在光電子來自表面10nm以內，僅帶出表面的化學信息，具有分析區域小、分析深度淺和不破壞...
XPS（X射線光電子能譜）的原理是用X射線去輻射樣品，使原子或分子的內層電子或價電子受激發射出來。被光子激發出來的電子稱為光電子。可以測量光電子的能量，以光電子的動能為橫坐標，相對強度（脈衝/s）為縱坐標可做出光電子能譜圖。
按探針光子的能量，PES可以分為兩類：X射線光電子譜(XPS)，能量範圍為100eV～10keV；紫外線電子譜(UPS)能量範圍為10eV～40eV。俄歇電子能譜儀 電子束轟擊材料表面，會產生表征元素種類及其化學價態的二次電子，這種二次電子稱為俄歇...
X-光電子能譜儀是一種用於物理學、化學、生物學、材料科學領域的分析儀器，於2011年12月28日啟用。技術指標 1、真空度：≤4X10-6Pa；2、能量範圍：0-1200電子伏特；3、X-ray類型：錐形雙陽極Mg或Al的Kа射線；4、最佳能量解析度...
化學分析電子譜微探針X光電子能譜儀是一種用於化學領域的分析儀器，於2002年4月8日啟用。技術指標 X-ray光源：Al陽極靶，掃描式單色器； 束斑：10 μm~200 μm，一般100 μm~200 μm； 能量分析儀：180o半球形分析器+16通道...
x射線光電子譜是一種用於數學領域的分析儀器，於2008年12月1日啟用。技術指標 真空度5×10^(-8) PaX射線源射線能量：1486.6 eV (Al Kα line), 1253.6 eV (Mg Kα line)；能量半高寬：0.85 eV (Al Kα line), 0....
X射線光電子能譜法是2016年公布的化學名詞。定義 超高真空條件下，用電子能譜儀測量X射線光子輻照樣品表面時所發射的光電子及俄歇電子能量分布，以此測定周期表中除氫、氦以外所有元素及其化學態的一種非破壞性表面分析方法。出處 《化學...
紫外光電子能譜儀使用的是紫外範圍的光子，紫外光比x射線能量低，是用來激發樣品最外層即價殼層電子的，所以紫外光電子能譜儀多用來研究樣品的能帶結構和表面態情況。該表面分析系統中的能量分析器與表面分析室為UPS和XPS共同使用，UPS...
用各種真空表面分析技術，包括電子譜儀（AES, EELS, HREELS, LEED）, 光電子能譜儀 (XPS, UPS, and Synchrotron Beam), 離子譜儀(ISS and SIMS), 掃描隧道顯微鏡（STM），程式升溫脫附譜(TPD)等，對各種固體材料進行表面物理和...
11．2X射線光電子能譜/312 11．2．1X射線光電子能譜儀的工作原理/312 11．2．2X射線光電子能譜儀的系統組成/313 11．2．3X射線光電子能譜及表征/315 11．2．4X射線光電子能譜儀的功用/317 11．2．5XPS的套用舉例/319 ...
