X射線薄膜衍射儀是一種用於化學領域的分析儀器,於2004年12月16日啟用。
基本介紹
- 中文名:X射線薄膜衍射儀
- 產地:德國
- 學科領域:化學
- 啟用日期:2004年12月16日
- 所屬類別:分析儀器 > X射線儀器 > X射線衍射儀
X射線薄膜衍射儀是一種用於化學領域的分析儀器,於2004年12月16日啟用。
X射線薄膜衍射儀 X射線薄膜衍射儀是一種用於化學領域的分析儀器,於2004年12月16日啟用。技術指標 角度範圍2Theta -5o~160o,角度解析度0.001o;薄膜樣品台。主要功能 分析材料的物質組成以及能級結構。
高分辨X射線衍射儀是一款帶有PC機控制隨機微處理器的X射線發生器。技術參數 帶有PC機控制隨機微處理器的超穩定X射線發生器 高亮玻璃和陶瓷X射線管,線上焦斑和點焦斑間快速更換 管罩的X-Y和可旋轉平台 bel鏡平行束光學器件 樣品空間...
寬溫區多功能X射線衍射儀是一種用於物理學、材料科學領域的分析儀器,於2017年12月7日啟用。技術指標 9KW 轉靶X射線發生器、θ-θ廣角測角儀、狹縫系統、標準樣品台- Z軸:-10 to 1mm、變溫範圍溫度4-300K。主要功能 粉末與薄膜...
高功率X射線衍射儀是一種用於材料科學領域的分析儀器,於2018年12月21日啟用。技術指標 旋轉陽極Cu靶,最大輸出功率6kW,能量色散陣列探測器(能量解析度優於380eV),高精度五軸尤拉環樣品台。主要功能 常規XRD掃描,薄膜掠入射等。
最大管電壓:≥60KV;最大管電流≥60mA; X射線燈管:最大電壓:≥60KV;最大電流≥60mA 測角儀:掃描半徑:≥600mm 最小步進角:+-0.0001° 掃描速度:0.1s-10s/step。主要功能 可對薄膜、粉末物象和薄膜厚度進行分析。
高溫原位X射線衍射儀是一種用於數學領域的分析儀器,於2018年03月23日啟用。技術指標 1.樣品形狀:塊體、粉末、薄膜、液體;2.變溫範圍:室溫-2000℃(空氣,惰性氣氛,還原性氣氛),升溫速率:0.1-60℃;3.2θ範圍:-10 – ...
廣角X射線衍射儀是一種用於工程與技術科學基礎學科領域的分析儀器。技術指標 1.1 適用溫度:-40℃~+50℃,適用濕度:小於等於90%。1.2 適於電源220V(10%)/50Hz。2. 設備用途: 可對進行物相檢索分析、物相定量及無標定量分析...
低溫X射線衍射儀是一種用於物理學、材料科學領域的分析儀器,於2014年9月1日啟用。技術指標 測角儀最小步長:0.0001度,測量溫度:100K到600K。主要功能 能夠精確測量低溫下多晶,單晶材料和薄膜材料的晶格結構和原子占位,薄膜厚度及...
高功率X射線粉末衍射儀的主要用途: 多晶衍射(粉末衍射):定性分析、定量分析、晶粒大小、點陣參數、全譜結構最佳化擬合、巨觀殘餘應力。薄膜分析等。右衍射儀可獲得高強度的Kα1衍射譜,有利於分析低對稱晶系。數據處理具有先進的峰分離...
變溫X射線衍射儀是一種用於材料科學、化學工程領域的分析儀器,於2012年12月12日啟用。技術指標 X射線發生器和機櫃: 最大輸出功率:3kW 最大管壓: 60kV,1mV/步, 機櫃同步數字顯示 最大管壓: 60mA,1mA/步,機櫃同步數字顯示...