ICP金屬刻蝕機

ICP金屬刻蝕機是一種用於物理學、電子與通信技術領域的工藝試驗儀器，於2012年7月7日啟用。

基本介紹

• 中文名：ICP金屬刻蝕機
• 產地：美國
• 學科領域：物理學、電子與通信技術
• 啟用日期：2012年7月7日
• 所屬類別：工藝試驗儀器 > 電子工藝實驗設備 > 半導體積體電路工藝實驗設備

技術指標

刻蝕速率〉200nm/min。

主要功能

金屬及合金的精細結構的乾法刻蝕。