高溫分析顯微鏡

高溫分析顯微鏡是一種用於礦山工程技術、冶金工程技術、能源科學技術領域的分析儀器，於2014年12月1日啟用。

基本介紹

• 中文名：高溫分析顯微鏡
• 產地：德國
• 學科領域：礦山工程技術、冶金工程技術、能源科學技術
• 啟用日期：2014年12月1日
• 所屬類別：分析儀器 > 顯微鏡及圖象分析儀器 > 光學顯微鏡

技術指標

正置式研究級材料顯微鏡；模組化設計鏡體；IC2S雙重色差校正及反差增強型光學系統；光陷阱技術；明場、ADF高級暗場、偏光等觀察方式；廣視場10x目鏡，視場數23，帶目鏡測微尺；IC2S物鏡，“EC”反差增強，5x~100x；高溫真空載物台TS1500,室溫到1500℃，10~3mbar；500萬有效像素圖像採集；通用圖像處理軟體及符合中國GB 及部分美國ASTM標準的專用分析軟體。

主要功能

正置高溫金相顯微鏡，放大倍數範圍50X~1000X，具備明場、ADF高級暗場、偏光觀察功能。配置500萬像素數字攝像頭進行顯微拍照。搭配計算機、印表機、圖像處理軟體。可對拍攝好的顯微鏡圖像進行處理、分析並評級。配置高溫真空熱台，觀察金屬樣品高溫下的狀態。