高低真空掃描電鏡是一種用於化學領域的分析儀器，於2003年8月1日啟用。
高低真空掃描電鏡是一種用於化學領域的分析儀器，於2003年8月1日啟用。技術指標高真空模式解析度： 3.0nm @ 30KV WD=8mm；低真空模式解析度： 4.0nm @ 30KV WD=5mm 放大倍數： ×5~×...
高低真空掃描電子顯微鏡是一種用於材料科學、冶金工程技術領域的分析儀器，於2005年5月20日啟用。技術指標 高真空模式解析度：3.0nm；低真空模式解析度：4.0nm；放大倍數：×5_×300,000；探測器：二次電子探測器、高靈敏度半導體探測器；圖像種類：二次電子像、背散射電子像（成分像、拓撲像、立體像）。主要功能...
高低真空掃描分析電子顯微鏡 高低真空掃描分析電子顯微鏡是一種用於材料科學、化學領域的分析儀器，於2005年8月15日啟用。技術指標 高真空解析度：3.0nm in SEI、4.0nm in BEI；低真空解析度：4.0nm in BEI；放大倍數：x8-x300000；加速電壓：0.5~30kV；放大倍數誤差：8%。主要功能 納微觀測和分析。
高真空掃描電鏡 高真空掃描電鏡是一種用於紡織科學技術領域的分析儀器，於2008年11月7日啟用。技術指標 電子槍真空度1.0×10-5Pa。主要功能 鑑定樣品的表面結構。
解析度較大型電鏡低，1-2nm。由於採用低電壓，可以在一台設備上整合透射電鏡、掃描電鏡與掃描透射電鏡 冷凍電鏡 冷凍電鏡（Cryo-microscopy）通常是在普通透射電鏡上加裝樣品冷凍設備，將樣品冷卻到液氮溫度（77K），用於觀測蛋白、生物切片等對溫度敏感的樣品。通過對樣品的冷凍，可以降低電子束對樣品的損傷，減小樣品的...
日本JEOL掃描電子顯微鏡 日本JEOL掃描電子顯微鏡是一種用於安全科學技術領域的分析儀器，於2007年11月13日啟用。技術指標 放大倍數5-10萬倍；三級物鏡光欄；高低真空切換；加速電壓0.5→30KV。主要功能 金屬材料，納米材料，微觀形貌分析及微區成份分析。
掃描電鏡低真空測量是一種用於材料科學學科領域的長度計量儀器，於2006年12月1日啟用。技術指標 掃描電子顯微鏡與能譜聯用，最大放大倍數300000，高真空與低真空作業系統。主要功能 掃描電鏡（SEM）是介於透射電鏡和光學顯微鏡之間的一種微觀性貌觀察手段，可直接利用樣品表面材料的物質性能進行微觀成像。掃描電鏡的優點...
數位化低真空掃描電鏡是一種用於生物學、材料科學、冶金工程技術、機械工程領域的分析儀器，於2005年11月10日啟用。技術指標 樣品座最大尺寸：Φ32 mm×10 mm，加速電壓：0.5 kV to 30 kV，二次電子圖像解析度： 3.0 nm，放大倍數：×8 to ×300,000。元素測量範圍：5B～92U，能量解析度：138eV。主要功能 ...
目前，擁有實驗用房面積3300㎡，實驗裝備整體達到國內先進水平，儀器設備原值4395萬元，擁有MTS815岩石伺服試驗系統、JSM-6510LV高低真空掃描電鏡、噴漿機器人實驗樣機、天潮4000曙光並行機、EH-4大地電磁剖面成像系統、TEM47瞬變電磁測量系統等一批世界先進水平的儀器裝備，已經成為礦業工程學科及礦業安全工程與環境保護各...
