基本介紹
- 書名：類金剛石膜的製備性能與套用
- 出版社： 科學出版社
- 出版時間：2004年1月1日
- 頁數：142 頁
基本信息,內容簡介,目錄,前言,參考文獻,
基本信息
類金剛石膜的製備性能與套用
出版社:科學出版社; 第1版 (2004年1月1日)
精裝: 142頁
正文語種: 簡體中文
開本: 32
ISBN: 7030137590
條形碼: 9787030137593
產品尺寸及重量: 21.4 x 15 x 1.4 cm ; 340 g
內容簡介
本書介紹了類金剛石膜的結構、性能、主要製備方法及套用領域；闡述了脈衝雷射濺射法製備薄膜材料的機理和套用情況；研究了在高功率、高重複頻率準分子雷射作用條件下製備類金剛石膜的結果和以場發射平板顯示器為套用方向的相關研究進展等。
本書可供材料科學、凝聚態物理專業科研人員及相關專業師生參考。
目錄
前言
第一章 類金剛石膜概述
1.1 類金剛石膜的製備方法
1.2 類金剛石膜的性能
1.3 類金剛石膜的套用
參考文獻
第二章 場發射研究進展
2.1 場發射的理論
2.2 場發射平板顯示陰極材料的發展狀況
2.3 冷陰極場發射顯示器件的研究進展
第三章 雷射濺射制膜技術研究進展
3.1PLD基本原理及物理過程
3.2 PLD技術製備薄膜材料的優、缺點
3.3 PLD技術在功能薄膜研究中的套用
第四章 雷射濺射製備類金剛石膜生長理論與實驗設備
4.1 雷射濺射製備類金剛石膜生長理論及文獻綜述
4.2 雷射濺射製備類金剛石膜實驗設備及工藝
4.3 類金剛石膜性能測試手段
第五章 高功率高重複頻率脈衝準分子雷射製備類金剛石膜研究
5.1 實驗參數對DLC膜製備的影響
5.2 最佳工藝條件下沉積的類金剛石膜的性能
5.3 本章小結
第六章 類金剛石膜冷陰極場發射特性研究
6.1 類金剛石膜場發射性能
6.2 氫對類金剛石膜場發射性能的影響
6.3 氮摻雜對類金剛石膜的結構、性能及場發射性能的影響
6.4 本章小結
第七章 類金剛石膜冷陰極場發射平板顯示器件設計與製作
7.1 簡單二極體結構FED器件
7.2 矩陣選址二極體結構
7.3 本章小結
第八章 總結與展望
