金剛石膜製備與物性研究及套用

《金剛石膜製備與物性研究及套用》系統地研究了直流熱陰極輝光電漿輔助化學氣象沉積金剛石膜的過程中，溫度、壓強、甲烷氫氣流量比等實驗參數對金剛石膜形貌、晶體結構和質量的影響；以甲烷、氫氣為工作氣體，研究低溫低壓下納米金剛石膜的製備；探索向甲烷、氫氣氣氛中通入不同流量的三聚氰胺、氮氣、氬氣對沉積金剛石膜的表面形貌、結構、晶面取向及導電性能的影響，並以三聚氰胺為氮摻雜源，通過改變氬氣氫氣流量比製備高導電的納米金剛石膜。

《金剛石膜製備與物性研究及套用》可供從事金剛石膜製備的學者和其他從事材料研究的技術人員閱讀，也可作為相關專業高等院校的本科生、研究生使用和參考。

1 緒論

1．1 金剛石的晶體結構

1．2 金剛石的性能及套用

1．2．1 力學性能及套用

1．2．2 熱學性能及套用

1．2．3 電學性能及套用

1．2．4 光學性能及套用

1．2．5 化學性能及套用

1．2．6 生物醫學領域

1．3 金剛石的分類

1．4 化學氣相沉積金剛石膜的研究進展及發展前景

參考文獻

2 CVD金剛石的成膜機理及製備方法

2．1 CVD法生長金剛石膜的機理

2．2 CVD金剛石膜的製備方法簡介

2．2．1 熱絲CVD法

2．2．2 微波電漿CVD法

2．2．3 電漿噴射CVD法

2．2．4 電子迴旋共振CVD法

2．2．5 燃燒火焰輔助CVD法

參考文獻

3 金剛石膜的製備設備和表征手段

3．1 直流熱陰極PCVD實驗裝置及實驗準備

3．1．1 直流熱陰極PCVD實驗裝置

3．1．2 直流輝光放電電漿原理

3．1．3 實驗準備及樣品的製備

3．2 金剛石膜的形貌、結構和性能表征

3．2．1 掃描電子顯微鏡（SEM）

3．2．2 X射線衍射分析儀（XRD）

3．2．3 雷射拉曼光譜儀（Raman）

3．2．4 霍爾效應測試儀（Hall）

3．2．5 原子力顯微鏡

3．2．6 透射電子顯微鏡（TEM）

3．2．7 金相顯微鏡

參考文獻

4 CH4/H2氣氛下金剛石膜生長特性研究

4．1 壓強對金剛石膜生長特性的影響

4．1．1 較高CH4濃度下壓強對金剛石膜生長特性的影響

4．1．2 較低CH4濃度下壓強對金剛石膜生長特性的影響

4．2 襯底溫度對金剛石膜生長特性的影響

4．2．1 SEM分析

4．2．2 Raman分析

4．2．3 XRD分析

4．2．4 綜合分析

4．3 CH4流量對金剛石膜生長特性的影響

4．3．1 SEM分析

4．3．2 Raman分析

金剛石膜製備與物性研究及套用

基本介紹

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