脈衝雷射沉積類金剛石膜技術

內容簡介

脈衝雷射沉積技術是一種研究和開發新型高性能材料的有效途徑，在製備新型碳材料——類金剛石膜方面，以其獨有的特點，逐漸顯現出填補傳統技術空白的優勢。但是，脈衝雷射沉積技術製備的類金剛石膜也存在一些固有的缺陷，如內應力大、大面積不均勻等問題。如何採用脈衝雷射沉積技術製備出具有工程套用價值的類金剛石膜，一直是國內外相關領域研究者的目標。全書共7章內容。從介紹類金剛石膜性質、組成、製備及套用入手，闡述脈衝雷射沉積技術及其在製備類金剛石膜方面的機理和優點、缺點，以及類金剛石膜的測試與表征；詳細討論雷射參數、基底狀態、靶材種類以及環境氣氛等因素對類金剛石膜性能的影響，偏重於闡述摻雜、退火、膜層結構及雙雷射技術等類金剛石膜降低內應力、提高膜層各種性能的改性技術；針對類金剛石膜的工程套用中存在的大面積不均勻、製備效率低的現實問題，展現多功能雷射沉積系統，闡述脈衝雷射沉積大尺寸均勻平面和球面類金剛石膜的裝置、模型及實驗；最後介紹脈衝雷射沉積技術在製備其他功能薄膜方面的套用，展望該技術未來發展趨勢和前景。

圖書目錄

序

前言

第1章類金剛石薄膜概述

第2章雷射沉積法製備類金剛石膜的機理

第3章類金剛石膜的性能測試與表征

第4章雷射沉積法製備類金剛石膜的影響因素

第5章雷射沉積法製備類金剛石膜的性能改進技術

第6章脈衝雷射沉積類金剛石膜工程化研究

第7章脈衝雷射沉積技術的套用及展望

脈衝雷射沉積類金剛石膜技術

基本介紹

內容簡介

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